感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜および硬化膜を有する素子

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-343866
公開番号（公開出願番号）：特開2007-193318
出願日： 2006年12月21日
公開日（公表日）： 2007年08月02日
要約：

【課題】熱硬化中に発生するパターンだれを抑制し、熱硬化工程後において高解像度、高耐熱性、高透明性の特性を有する、TFT基板用平坦化膜、層間絶縁膜、あるいは光導波路のコアやクラッド材の形成に用いられる高感度の感光性シロキサン組成物を提供する。【解決手段】(a)ポリシロキサン、(b)キノンジアジド化合物、(c)溶剤を含有する感光性シロキサン組成物であって、(a)ポリシロキサンは、少なくとも(a’)プリベーク後のポリマーが2.38wt%テトラメチルアンモニウムヒドロキサイド水溶液に不溶であるポリシロキサンを含有している感光性シロキサン組成物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(a)ポリシロキサン、(b)キノンジアジド化合物、(c)溶剤を含有する感光性シロキサン組成物であって、(a)ポリシロキサンは、少なくとも(a’)プリベーク後のポリマーが2.38wt%テトラメチルアンモニウムヒドロキサイド水溶液に不溶であるポリシロキサンを含有している感光性シロキサン組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/075 , G03F 7/023 , G03F 7/004 , H01L 21/312

FI (5件)：

G03F7/075 521 , G03F7/023 , G03F7/004 501 , H01L21/312 D , H01L21/312 C

Fターム (23件)：

2H025AA02 , 2H025AA10 , 2H025AA20 , 2H025AB14 , 2H025AB16 , 2H025AC01 , 2H025AD03 , 2H025BE01 , 2H025CA41 , 2H025CB33 , 2H025CB52 , 2H025CC08 , 2H025CC17 , 2H025CC20 , 2H025FA17 , 2H025FA29 , 2H025FA30 , 5F058AC03 , 5F058AC07 , 5F058AF04 , 5F058AG01 , 5F058AH02 , 5F058AH03

引用特許：

出願人引用 (8件)

特許第2933879号明細書(請求項1)
ポジ型熱硬化感光材料
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-242827 出願人：東ソー株式会社
ポジ型感光性樹脂組成物およびその硬化物
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-028857 出願人：JSR株式会社

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