走査型露光方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-225736
公開番号（公開出願番号）：特開2002-043214
出願日： 2000年07月26日
公開日（公表日）： 2002年02月08日
要約：

【要約】【課題】ステップアンドスキャン方式においても多重露光を行うことができ、且つ多重露光の最適化に必要な焦点位置毎の照明系のコヒーレンシーファクタや露光量の調整を行うことができ、パターン転写精度の向上をはかる。【解決手段】マスク11に形成されたパターンを投影レンズ13を介してウェハ14上に転写する際に、マスク11の投影領域をスリット15によって制限し、スリット15を固定した状態でマスク11とウェハ14を同期して走査することで、マスク11のパターン領域全体をウェハ14上に転写する走査型露光方法において、マスク11及びウェハ14の走査によるマスク全体の露光を露光条件を変えて2回行い、且つ1回目の露光と2回目の露光でマスク11及びウェハ14の走査方向を逆にする。

請求項（抜粋）：

マスクに形成されたパターンを投影光学系を介して被処理基板上に転写する際に、マスクの投影領域をスリットによって制限し、このスリットをマスク及び基板と相対的に走査することで、マスクのパターン領域全体を基板上に転写する走査型露光方法であって、前記スリットの相対的走査によるマスク全体の露光を、露光条件を変えて少なくとも2回行うことを特徴とする走査型露光方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 7/207 , G03F 7/22

FI (4件)：

G03F 7/207 H , G03F 7/22 H , H01L 21/30 514 A , H01L 21/30 518

Fターム (6件)：

5F046AA13 , 5F046BA05 , 5F046CB05 , 5F046CC15 , 5F046DA02 , 5F046DA14

引用特許：

審査官引用 (7件)

露光方法及び露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-300523 出願人：株式会社ニコン
投影露光方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-293468 出願人：ソニー株式会社
投影露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-103086 出願人：株式会社ニコン

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