特許
J-GLOBAL ID：200903018229199660
大口径カーボンナノチューブ薄膜形成プラズマCVD装置及び該薄膜の形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
北村 欣一 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-000300
公開番号（公開出願番号）：特開2001-192830
出願日： 2000年01月05日
公開日（公表日）： 2001年07月17日
要約：
【要約】【課題】 手間がかからず、カーボンナノチューブの生産能力が高く、電力の消費量が低く、製造コストの安い、大口径のカーボンナノチューブ薄膜形成CVD装置及び該薄膜形成方法の提供。【解決手段】 マイクロ波によるプラズマを利用した気相反応によるカーボンナノチューブ薄膜形成CVD装置において、マイクロ波発生システムが複数個並列に配置されて、各システムのキャビティ部が成膜室上蓋の直上に配備されるようにされ、マイクロ波発生システムのキャビティ部の下面には複数個のスリットが設けられ、マイクロ波がこれらスリットを通って、キャビティ部の直下にある石英製上蓋を介して成膜室内に導入されるように構成されている。この装置を用いてカーボンナノチューブ薄膜を形成する。
請求項（抜粋）：
成膜室と、該成膜室の上部に設けられた石英製上蓋と、該成膜室内に設置された基板ホルダーと、該成膜室内に炭素含有ガス及び水素ガスを供給するためのガス供給系と、該基板ホルダーに接続されたバイアス電源と、該成膜室内にプラズマを発生させるためのマイクロ波発生システムとを有し、該マイクロ波発生システムが複数個並列に配置されており、該マイクロ波発生システムのそれぞれのキャビティ部が該石英製上蓋の直上にあり、該キャビティ部の下面には複数個のスリットが設けられ、マイクロ波がこれらスリットを通って、キャビティ部の直下にある石英製上蓋を介して該成膜室内に導入されるように構成されていることを特徴とする大口径カーボンナノチューブ薄膜形成プラズマCVD装置。
IPC (3件)：
C23C 16/26
, C01B 31/02 101
, C23C 16/511
C23C 16/26
, C01B 31/02 101 F
, C23C 16/511
4G046CA02
, 4G046CB03
, 4G046CB08
, 4G046CC06
, 4K030BA27
, 4K030CA02
, 4K030CA12
, 4K030FA02
, 4K030GA04
, 4K030GA05
, 4K030JA18
, 4K030KA26
, 4K030LA18
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (10件)
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