特許
J-GLOBAL ID：200903018314998130

乾燥おからの製造方法および装置

発明者：
大川原 正明

大川原 正明 について

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五師 ▲たか▼仁

五師 ▲たか▼仁 について

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横山 哲夫

横山 哲夫 について

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畑中 健治

畑中 健治 について

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田中 俊幸

田中 俊幸 について

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野田 知里

野田 知里 について


出願人/特許権者：
大川原化工機株式会社

大川原化工機株式会社 について


代理人 (1件)： 渡邉 一平 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-031800
公開番号（公開出願番号）：特開2002-300855
出願日： 2001年02月08日
公開日（公表日）： 2002年10月15日
要約：
【要約】【課題】 原料おからから発生する臭気を乾燥装置外部に排出させることなく、原料おからの品質を維持しつつ、原料おからの殺菌、減菌が行え、原料おからを均一に乾燥することができ、更には省エネルギーで低ランニングコストである乾燥おからの製造方法及び装置を提供する。【解決手段】 乾燥室12内に、原料おからを収容する乾燥容器10を設け、乾燥容器10を回転させながら、乾燥室12内に循環供給される熱媒体ガスからの伝熱により、原料おからの水分除去及び殺菌の操作を行う乾燥おからの製造方法及び装置である。乾燥開始前に、乾燥室10内の空気を水蒸気90%(体積率)以上に置換し、乾燥開始から原料おからの保有水を70〜90%除去するまでの期間(定率乾燥期間)を、水蒸気濃度が90%(体積率)以上であり、且つ120〜250°Cの常圧過熱水蒸気で乾燥を行った後、原料おからの残留水分の仕上げ乾燥期間を、水蒸気濃度が50%(体積率)以下であり、且つ150°C以下の空気で乾燥を行う。
請求項（抜粋）：
乾燥室内に、原料おからを収容する乾燥容器を設け、該乾燥容器を回転させながら、乾燥室内に循環供給される熱媒体ガスからの伝熱により、原料おからの水分除去及び殺菌の操作を行う乾燥おからの製造方法であって、乾燥開始前に、乾燥室内の空気を水蒸気90%(体積率)以上に置換し、乾燥開始から原料おからの保有水を70〜90%除去するまでの期間(定率乾燥期間)を、水蒸気濃度が90%(体積率)以上であり、且つ120〜250°Cの常圧過熱水蒸気で乾燥を行った後、原料おからの残留水分の仕上げ乾燥期間を、水蒸気濃度が50%(体積率)以下であり、且つ150°C以下の空気で乾燥を行うことを特徴とする乾燥おからの製造方法。
IPC (6件)：
A23L 1/20 ,  F26B 3/02 ,  F26B 11/02 ,  F26B 21/08 ,  F26B 21/10 ,  F26B 21/14
FI (7件)：
A23L 1/20 Z ,  F26B 3/02 ,  F26B 11/02 ,  F26B 21/08 ,  F26B 21/10 A ,  F26B 21/10 Z ,  F26B 21/14
Fターム (32件)：
3L113AA07 ,  3L113AB01 ,  3L113AC05 ,  3L113AC20 ,  3L113AC28 ,  3L113AC48 ,  3L113AC51 ,  3L113AC58 ,  3L113AC61 ,  3L113AC63 ,  3L113AC68 ,  3L113BA16 ,  3L113CA08 ,  3L113CA10 ,  3L113CB01 ,  3L113CB12 ,  3L113CB19 ,  3L113CB24 ,  3L113CB29 ,  3L113CB32 ,  3L113CB34 ,  3L113DA02 ,  3L113DA06 ,  3L113DA11 ,  4B020LB24 ,  4B020LC01 ,  4B020LC07 ,  4B020LC08 ,  4B020LC10 ,  4B020LG07 ,  4B020LP05 ,  4B020LP20
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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