特許
J-GLOBAL ID:200903018328164282
光半導体装置の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
細田 芳徳
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-406400
公開番号(公開出願番号):特開2005-167092
出願日: 2003年12月04日
公開日(公表日): 2005年06月23日
要約:
【課題】光半導体素子の樹脂封止を簡便に、かつ均一に行うことができる光半導体素子の製造方法を提供すること。【解決手段】光半導体装置の製造方法であって、(1) 導体上に搭載した光半導体素子上に樹脂層を形成する工程、及び(2) 工程(1)で形成した樹脂層を加圧成型する工程を有する、光半導体装置の製造方法。【選択図】なし
請求項(抜粋):
光半導体装置の製造方法であって、
(1) 導体上に搭載した光半導体素子上に樹脂層を形成する工程、及び
(2) 工程(1)で形成した樹脂層を加圧成型する工程
を有する、光半導体装置の製造方法。
IPC (5件):
H01L33/00
, H01L21/56
, H01L23/28
, H01L23/29
, H01L23/31
FI (5件):
H01L33/00 N
, H01L21/56 E
, H01L21/56 J
, H01L23/28 D
, H01L23/30 F
Fターム (21件):
4M109AA01
, 4M109AA02
, 4M109BA01
, 4M109CA10
, 4M109CA22
, 4M109EC11
, 4M109EE12
, 4M109GA01
, 5F041DA13
, 5F041DA19
, 5F041DA46
, 5F041DA58
, 5F041DA59
, 5F061AA01
, 5F061AA02
, 5F061BA01
, 5F061CA10
, 5F061CA22
, 5F061CB02
, 5F061CB13
, 5F061FA01
引用特許:
出願人引用 (1件)
審査官引用 (7件)
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