特許
J-GLOBAL ID:200903018643570590

化学増幅型ネガ型レジスト組成物

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 曾我 道照 (外6名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-347975
公開番号(公開出願番号):特開平10-186660
出願日: 1996年12月26日
公開日(公表日): 1998年07月14日
要約:
【要約】【課題】 本発明の目的は、化学増幅型ネガ型レジストについて、更に解像度を向上させると共に、プロファイル形状が優れ、且つ基板依存性の少ないものを提供することを目的としてなされたものである。【解決手段】 本発明に係る化学増幅型ネガ型レジスト組成物は、(A)アルカリ可溶性樹脂、(B)放射線の照射により酸を発生する化合物及び(C)架橋剤を含有してなる化学増幅型ネガ型レジスト組成物において、該組成物が、(D)有機カルボン酸化合物及び(E)有機アミン化合物を含有してなることを特徴とする。
請求項(抜粋):
(A)アルカリ可溶性樹脂、(B)放射線の照射により酸を発生する化合物及び(C)架橋剤を含有してなる化学増幅型ネガ型レジスト組成物において、該組成物が、(D)有機カルボン酸化合物及び(E)有機アミン化合物を含有してなることを特徴とする化学増幅型ネガ型レジスト組成物。
IPC (4件):
G03F 7/038 601 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/004 ,  H01L 21/027
FI (4件):
G03F 7/038 601 ,  G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/004 503 Z ,  H01L 21/30 502 R
引用特許:
審査官引用 (7件)
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