特許
J-GLOBAL ID：200903090841388849

レジスト組成物

発明者：
尾家 正行

尾家 正行 について

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田中 秀行

田中 秀行 について

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阿部 信紀

阿部 信紀 について

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三沢 真理

三沢 真理 について


出願人/特許権者：
日本ゼオン株式会社

日本ゼオン株式会社 について


代理人 (1件)： 西川 繁明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-312669
公開番号（公開出願番号）：特開平7-092678
出願日： 1993年11月18日
公開日（公表日）： 1995年04月07日
要約：
【要約】【目的】感度、解像度、耐エッチング性、保存安定性、及びプロセス余裕度などのレジスト特性に優れたレジスト材料を提供すること。【構成】(A)活性光線の照射により酸を生成可能な化合物、(B)酸に対して不安定な基を持つ構造単位を有し、かつ、化合物(A)に由来する酸の存在下に該基が開裂してアルカリ可溶性となる重合体、及び(C)アミノ化合物を含有することを特徴とするレジスト組成物。
請求項（抜粋）：
(A)活性光線の照射により酸を生成可能な化合物、(B)酸に対して不安定な基を持つ構造単位を有し、かつ、化合物(A)に由来する酸の存在下に該基が開裂してアルカリ可溶性となる重合体、及び(C)アミノ化合物を含有することを特徴とするレジスト組成物。
IPC (6件)：
G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/023 511 ,  G03F 7/028 ,  G03F 7/033 ,  H01L 21/027
引用特許：
審査官引用 (13件)
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