特許
J-GLOBAL ID：200903018721114750
放射線感光材料及びそれを使用したパターン形成方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
三浦 良和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-050007
公開番号（公開出願番号）：特開平11-231541
出願日： 1998年02月17日
公開日（公表日）： 1999年08月27日
要約：
【要約】【課題】 安価で、高感度で、優れた透明性、エッチング耐性および密着性を有する放射線感光材料及びそれを使用したパターン形成方法を提供すること。【解決手段】 (メタ)アクリロイル基のような不飽和基及び酸によりアルカリ可溶基を生じる官能基を1分子中にそれぞれ1つ以上有するアクリル樹脂、及びトリフェニルスルフォニウムヘキサフロロアンチモンのような放射線照射により酸を発生する物質(B)からなる放射線感光材料。
請求項（抜粋）：
不飽和基及び酸によりアルカリ可溶基を生じる官能基を1分子中にそれぞれ1つ以上有する樹脂(A)、及び放射線照射により酸を発生する物質(B)からなる放射線感光材料。
IPC (2件)：
G03F 7/039 601
, H01L 21/027
G03F 7/039 601
, H01L 21/30 502 R
