特許
J-GLOBAL ID:200903018721816402
ガス分析装置及びその分析方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
高橋 敏忠 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-079957
公開番号(公開出願番号):特開平10-274644
出願日: 1997年03月31日
公開日(公表日): 1998年10月13日
要約:
【要約】【課題】 測定する気体試料に合わせた標準ガスが容易に製造でき、いかなる圧力状態(加圧、大気圧、負圧)の気体試料であっても分析器に導入できて、多数の気体試料を連続全自動で分析が可能な標準ガス発生装置内蔵全自動ガス分析装置及びその分析方法を提供する。【解決手段】 並列に設けたガスまたは液を充填した複数の容器に接続し、複数のバッファタンク(B1、B2)を直列に設けた標準ガス製造用希釈器(D)と、前記バッファタンク(BT)の上流側に計量管(MT)を備えた気体試料導入装置(T)を設けてガス分析装置(A)に連結する。
請求項(抜粋):
ガス、液のいずれかを充填した複数の容器にそれぞれ選択用のバルブ及び流量調整器を介装した配管を並列に設け、それらの配管のそれぞれを1本の主配管の一端に連通し、その主配管の他端には複数のバッファタンクを直列に連通し、前記主配管から分岐して試料採取口及び希釈ガス挿入口のそれぞれに連通する配管を設け、これらの配管より成る管路を開閉して切換える複数のバルブと、管路内のガスを吸引するための真空ポンプとを設けた標準ガス製造用ガス希釈器を有することを特徴とするガス分析装置。
IPC (4件):
G01N 30/04
, G01N 1/00
, G01N 1/00 101
, G01N 1/00 102
FI (4件):
G01N 30/04 P
, G01N 1/00 C
, G01N 1/00 101 R
, G01N 1/00 102 D
引用特許:
審査官引用 (6件)
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標準ガス導入装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-261482
出願人:スズキ株式会社
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低濃度校正用ガス混合物の発生装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-247313
出願人:エアー.プロダクツ.アンド.ケミカルス.インコーポレーテッド
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特開平3-194438
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希釈器
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-282910
出願人:東京ガスケミカル株式会社, 東京瓦斯株式会社
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ガスクロマトグラフ
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-133028
出願人:東京瓦斯株式会社, 横河電機株式会社
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爆発物検出スクリーニング装置のサンプリング室
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-240080
出願人:リサーチコーポレーションテクノロジーズインコーポレーテッド
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