めっき装置及びめっき方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：綿貫隆夫 , 堀米和春
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-208109
公開番号（公開出願番号）：特開2004-052015
出願日： 2002年07月17日
公開日（公表日）： 2004年02月19日
要約：

【課題】保持治具の保持爪によって被めっき物の周縁部を挟持してめっきを施すめっき装置及びめっき方法において、保持爪の内側近傍に気泡が残留することによるめっき不良をなくし、めっき有効範囲を増やすことのできるめっき装置及びめっき方法を提供する。【解決手段】めっき液20が貯留されるめっき槽51と、保持爪53aによって被めっき物30の周縁部を挟持し、めっき面30aをめっき液20中に露出した状態で被めっき物30をめっき液20中に浸漬可能に装着、保持する保持治具53と、めっき液20中に配置される陽極板54と、被めっき物30の前方から、保持爪53aの内側近傍のめっき面に向かってめっき液を噴射する第1ノズル11とを具備することを特徴とする。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

めっき液が貯留されるめっき槽と、保持爪によって被めっき物の周縁部を挟持し、該被めっき物を、該被めっき物のめっき面をめっき液中に露出した状態で前記めっき槽のめっき液中に浸漬可能に装着、保持する保持治具と、めっき液中に配置される陽極板と、被めっき物の前方から、前記保持爪の内側近傍のめっき面に向かってめっき液を噴射する第1ノズルとを具備することを特徴とするめっき装置。

IPC (2件)：

C25D5/08 , C25D17/06

FI (2件)：

C25D5/08 , C25D17/06 A

Fターム (10件)：

4K024BB12 , 4K024BC01 , 4K024CB01 , 4K024CB02 , 4K024CB06 , 4K024CB08 , 4K024CB14 , 4K024CB15 , 4K024EA03 , 4K024EA06

引用特許：

審査官引用 (5件)

バンプの形成方法およびめっき装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-081331 出願人：新光電気工業株式会社
ウェハーめっき装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-050948 出願人：東京エレクトロン株式会社, 日本エレクトロプレイテイング・エンジニヤース株式会社
バンプの形成方法およびめっき装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-332919 出願人：新光電気工業株式会社

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