特許
J-GLOBAL ID：200903019157291767
プラズマ処理システムにおける改良された上部電極板のための方法及び装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
鈴江 武彦
, 河野 哲
, 中村 誠
, 村松 貞男
, 橋本 良郎
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-539373
公開番号（公開出願番号）：特表2006-501645
出願日： 2003年09月29日
公開日（公表日）： 2006年01月12日
要約：
【課題】プラズマ処理システム用の改良された上部電極を提供する。【解決手段】プラズマ処理システム用の上部電極は、第1の面82、第2の面88、周辺エッジ94、及び1つ以上のガス注入オリフィス100を具備する電極板24を具備する。第1の面82は、電極板24を上部アセンブリ20に結合するように配設される。第2の面88は、プラズマ処理システム10内の処理空間12に面するプラズマ面90と、電極板24をプラズマ処理システム10と係合させる係合面92とを含む。1つ以上のガス注入オリフィス100は、第1の面82及び第2の面88に結合されると共に、処理ガスを処理空間12に供給するように構成される。プラズマ面90を含む電極板24の複数の露出面140に保護バリア150が結合される。
請求項（抜粋）：
プラズマ処理システム用の上部電極であって、
第1の面、第2の面、周辺エッジ、及び1つ以上のガス注入オリフィスを具備する電極板と、前記第1の面は、前記電極板を上部アセンブリに結合するように配設されることと、前記第2の面は、前記プラズマ処理システム内の処理空間に面するプラズマ面と、前記電極板を前記プラズマ処理システムに係合させる係合面とを含むことと、前記1つ以上のガス注入オリフィスは、前記第1の面及び前記第2の面に結合されると共に、処理ガスを前記処理空間に供給するように構成されることと、
前記電極板の複数の露出面に結合された保護バリアと、前記露出面は前記プラズマ面を含むことと、
を具備する上部電極。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/302 101L
, C23F4/00 A
4K057DA11
, 4K057DB06
, 4K057DD01
, 4K057DE08
, 4K057DE14
, 4K057DM09
, 4K057DN01
, 5F004BA04
, 5F004BB29
, 5F004BB30
, 5F004BC03
, 5F004DA00
, 5F004DA01
, 5F004DA23
, 5F004DA24
, 5F004DA25
, 5F004DA26
