特許

J-GLOBAL ID：200903019320176121

クラスタツールの処理システム及びモジュール・サイクル時間監視プログラム

発明者： 池田 岳
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 佐々木 聖孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-002828
公開番号（公開出願番号）：特開2006-190894
出願日： 2005年01月07日
公開日（公表日）： 2006年07月20日
要約：

【課題】 処理時間の独立した複数のプロセス・モジュール間でウエハ搬入出のタイミングが衝突するおそれを回避してシステム全体の搬送効率ないしスループットを向上させること。【解決手段】 この処理システムでは、クラスタツール内で同時に稼動する複数のたとえばプロセス・モジュールPM1,PM2,PM3,PM4において被処理体滞在時間とその前後の付随的ビジー時間とを足し合わせたモジュール・サイクル時間を同じ長さに設定し、トランスファ・モジュールTMの真空搬送ロボットRB1が各プロセス・モジュールPM1,PM2,PM3,PM4に対する1回のアクセスでピック&プレース動作により処理済のウエハWiを搬出してそれと入れ替わりに次のウエハWi+1を搬入する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

搬送機構の周囲に前記搬送機構のアクセス可能な複数のプロセス・モジュールを配置し、前記搬送機構により一群の被処理体を一つずつ前記複数のプロセス・モジュールに順次搬送して各被処理体に一連の処理を施すクラスタツールの処理システムであって、 前記複数のプロセス・モジュールについてモジュール内に1つの被処理体が滞在する滞在時間とその滞在の前後で当該被処理体のためにモジュールの機能が塞がる付随的ビジー時間とを足し合わせたモジュール・サイクル時間を実質的に同じ長さに設定し、 各被処理体が一巡するのと同じ順序で前記搬送機構が前記複数のプロセス・モジュールを巡回し、各々の前記プロセス・モジュールに対するアクセスで処理済みの被処理体を搬出してそれと入れ替わりに後続の別の被処理体を搬入する処理システム。

IPC (2件)：

H01L 21/677 ,  H01L 21/02

FI (2件)：

H01L21/68 A ,  H01L21/02 Z

Fターム (13件)：

5F031CA02 ,  5F031FA01 ,  5F031FA11 ,  5F031FA12 ,  5F031FA15 ,  5F031GA03 ,  5F031GA04 ,  5F031GA44 ,  5F031MA04 ,  5F031NA09 ,  5F031PA03 ,  5F031PA04 ,  5F031PA30

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 搬送システムの搬送位置合わせ方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-321501   出願人：東京エレクトロン株式会社

審査官引用 (5件)

• 半導体装置の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-153572   出願人：富士通株式会社
• 特開平4-113612
  
• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-367782   出願人：国際電気株式会社
• 特開平1-209737
  
• 製造システムおよび製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-155697   出願人：株式会社日立製作所