特許
J-GLOBAL ID：200903020897633767
基板処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
守山 辰雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-367782
公開番号（公開出願番号）：特開2000-150619
出願日： 1998年07月09日
公開日（公表日）： 2000年05月30日
要約：
【要約】【課題】 基板処理装置に処理対象の基板を投入することができる時間間隔を考慮した上で、搬送装置による搬送処理を支障なく実施する。【解決手段】 同一の処理を行う成膜室R1、R2及びR3〜R5を備えて、これら処理室(処理室群)に対する基板の搬送処理を同一の搬送装置T2によって行う基板処理装置において、処理室で基板処理に要する時間及び基板搬送処理に要する時間とを、その処理室群の室数で割り算して得た値をタクトタイムに設定し、このタクトタイム毎に基板処理装置へ基板を投入する。更に、1回の搬送処理に要する時間以上の時間を搬送スロットとしてタクトタイム内に複数設定し、当該搬送スロットと同期をとって搬送装置T2により各成膜室に対する基板の搬送処理を行わせる。
請求項（抜粋）：
メインフレームに同一の処理を並列的に行う複数の処理室から成る処理室群を複数連接し、これら処理室に対する基板の搬送処理をメインフレーム内に設けた同一の搬送装置によって行うとともに、メインフレームの外部に設けた他の搬送装置により当該メインフレーム内に処理対象の基板を搬入する基板処理装置において、一定時間をタクトタイムとしてコントローラに設定し、当該コントローラの制御下で前記他の搬送装置が当該タクトタイムに従った時間間隔でメインフレーム内へ処理対象の基板を搬入することを特徴とする基板処理装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/68 A
, H01L 21/02 Z
