特許

J-GLOBAL ID：200903019452692005

合成石英ガラス部材及びこれを用いた光リソグラフィー装置

発明者： 吉田 明子 ,  小峯 典男 ,  神保 宏樹
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 大西 正悟
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-089108
公開番号（公開出願番号）：特開2001-270731
出願日： 2000年03月28日
公開日（公表日）： 2001年10月02日
要約：

【要約】【課題】 ArFエキシマレーザを光源とする光リソグラフィー装置の透過率を高めて十分な実用性を発揮させることが可能な合成石英ガラス部材及びこれを用いた光リソグラフィー装置を提供する。【解決手段】 光源11からのArFエキシマレーザ光により、レチクル21に形成された集積回路パターンが投影レンズ22により縮小されてウエハ30上に露光されるようにステッパー1を構成する。そして、ステッパー1を構成するレンズ類12,13,14,22を、ArFエキシマレーザを0.1μJ/cm2・p以上200mJ/cm2・p以下のエネルギー密度で1×104パルス照射したとき、照射後に測定される193.4nmにおける損失係数が0.0050cm-1以下となる特性を有する合成石英ガラス部材により構成する。

請求項（抜粋）：

400nm以下の波長帯域の光とともに用いられる光リソグラフィー装置に使用される合成石英ガラス部材であって、ArFエキシマレーザを0.1μJ/cm2・p以上200mJ/cm2・p以下のエネルギー密度で1×104パルス照射したとき、照射後に測定される193.4nmにおける損失係数が0.0050cm-1以下であることを特徴とする合成石英ガラス部材。

IPC (6件)：

C03C 3/06 ,  C03B 20/00 ,  G02B 1/00 ,  G03F 7/20 502 ,  G03F 7/22 ,  H01L 21/027

FI (6件)：

C03C 3/06 ,  C03B 20/00 F ,  G02B 1/00 ,  G03F 7/20 502 ,  G03F 7/22 H ,  H01L 21/30 515 D

Fターム (14件)：

2H097CA13 ,  2H097GB01 ,  2H097LA10 ,  4G014AH15 ,  4G014AH19 ,  4G014AH21 ,  4G062AA04 ,  4G062BB02 ,  4G062CC07 ,  4G062MM02 ,  4G062NN16 ,  5F046BA04 ,  5F046CA04 ,  5F046CB12

引用特許：

審査官引用 (4件)

• エキシマレ-ザ耐性を向上した石英ガラスの製造方法及び石英ガラス部材
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-336755   出願人：株式会社ニコン
• 合成石英ガラスの製造方法及びこの方法により得られた合成石英ガラス
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-330462   出願人：株式会社ニコン
• 真空紫外用石英ガラスの製造方法 および石英ガラス光学部材
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-170984   出願人：株式会社ニコン
• 光リソグラフィ-用石英ガラス、それを含む光学部材、 それを用いた露光装置、並びにその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-000808   出願人：株式会社ニコン