特許
J-GLOBAL ID：200903019549217867

洗浄液の分離再利用装置および洗浄液の分離再利用方法

発明者：
岡本 伊雄

岡本 伊雄 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-328142
公開番号（公開出願番号）：特開2002-134458
出願日： 2000年10月27日
公開日（公表日）： 2002年05月10日
要約：
【要約】【課題】安価で地球環境保護に沿った洗浄液の分離再利用装置および洗浄液の分離再利用方法を提供する。【解決手段】 基板洗浄装置で基板の洗浄に使用されたハイドロフルオロエーテルおよびふっ酸は、回収管51に1によって回収タンク52に回収され、この回収タンク52内において、これらの洗浄液は比重の差によって上下に分離されて貯留される。そして、基板の洗浄が行われていない所定のタイミングで、回収タンク52内の下部のハイドロフルオロエーテルは、HFE送出機構53によって送り出されて分離され、貯留タンク61内に貯留されるとともに、HFE供給機構62によって基板洗浄装置内のHFE供給部20に供給される。
請求項（抜粋）：
複数の洗浄液を用いて基板を洗浄する基板洗浄装置において用いられる洗浄液の分離再利用装置であって、上記複数の洗浄液は、少なくとも、ハイドロフルオロエーテルを含む第1洗浄液と、この第1洗浄液よりも比重の小さい第2洗浄液とを含み、これら第1洗浄液と第2洗浄液との比重の差を利用して第1洗浄液と第2洗浄液とを分離する洗浄液分離手段と、この洗浄液分離手段で分離された第1洗浄液を、上記基板洗浄装置における基板の洗浄に再度利用させる洗浄液再利用手段と、を備えることを特徴とする洗浄液の分離再利用装置。
IPC (3件)：
H01L 21/304 648 ,  H01L 21/304 ,  B08B 3/08
FI (3件)：
H01L 21/304 648 F ,  H01L 21/304 648 K ,  B08B 3/08 Z
Fターム (13件)：
3B201AA03 ,  3B201AB01 ,  3B201AB34 ,  3B201AB42 ,  3B201BB24 ,  3B201BB93 ,  3B201BB95 ,  3B201BB96 ,  3B201CA01 ,  3B201CB12 ,  3B201CC01 ,  3B201CC13 ,  3B201CD22
引用特許：
審査官引用 (7件)
  • 洗浄方法及び装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-179416   出願人：三井・デュポンフロロケミカル株式会社
  • 半導体基板の表面処理方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-214422   出願人：株式会社東芝, 東芝マイクロエレクトロニクス株式会社
  • 物品の水切り乾燥方法及びその装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-010087   出願人：三菱重工業株式会社
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