特許

J-GLOBAL ID：200903019582977230

ハイブリッドパルスプラズマ蒸着装置

発明者： 神田 一隆 ,  粟津 薫 ,  作道 訓之 ,  岡▲崎▼ 健一 ,  長谷川 祐史 ,  池永 訓昭 ,  南保 幸男 ,  佐治 栄治 ,  安井 治之
出願人/特許権者： 日華化学株式会社 ,  株式会社不二越 ,  株式会社オンワード技研 ,  フジタ技研株式会社 ,  澁谷工業株式会社 ,  学校法人金沢工業大学 ,  石川県 ,  福井県
代理人 (1件)： 高木 千嘉 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-006842
公開番号（公開出願番号）：特開2002-212740
出願日： 2001年01月15日
公開日（公表日）： 2002年07月31日
要約：

【要約】【課題】 三次元形状を持つ被蒸着部材の表面により均一で密着性のよい被膜を迅速に形成することができるハイブリッドパルスプラズマ蒸着装置および方法を提供すること。【解決手段】 反応容器10中に拡散したガスをプラズマ化して成膜を行なう際には、被蒸着物WOを載置する支持台STに1kV〜40kV程度のピーク電圧VPの高電圧パルスが印加されて、プラズマ中の陽イオンが比較的高エネルギーで被蒸着物WOに入射する。これにより、イオンミキシング効果を利用した成膜が行なわれる。また、高電圧印加に際して、支持台STが絶対値で電圧VPよりも十分小さな5kV程度以下のバイアス電圧VBとなって、プラズマ中の陽イオンが比較的低エネルギーで被蒸着物WOに入射する。この場合、高電圧パルスの合間にも成膜を進行させることができる。

請求項（抜粋）：

反応容器中に原料ガスを供給する原料供給手段と、高周波及びマイクロ波を前記反応容器中に投入して、前記原料ガスを励起する励起手段と、前記反応容器に収容された被蒸着物に高電圧パルスを印加する電圧印加手段と、前記高電圧パルスに所定の電圧を重畳させるバイアス手段と、を備えるハイブリッドパルスプラズマ蒸着装置。

IPC (2件)：

C23C 16/517 ,  H05H 1/46

FI (2件)：

C23C 16/517 ,  H05H 1/46 B

Fターム (9件)：

4K030AA11 ,  4K030EA01 ,  4K030FA01 ,  4K030JA05 ,  4K030JA17 ,  4K030KA20 ,  4K030KA22 ,  4K030KA25 ,  4K030KA41

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 物体の加工処理方法と、その装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-091749   出願人：学校法人金沢工業大学
• パルスプラズマCVDによる成膜方法及びその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-340403   出願人：神港精機株式会社
• 薄膜形成法及びその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-030608   出願人：三菱電機株式会社