特許
J-GLOBAL ID：200903019705776316

水素水製造装置、水素水製造方法および水素水

発明者：
平山 憲二

平山 憲二 について

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澤 裕之

澤 裕之 について

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植田 耕司

植田 耕司 について


出願人/特許権者：
エイトノット株式会社

エイトノット株式会社 について

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岩谷産業株式会社

岩谷産業株式会社 について

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岩谷瓦斯株式会社

岩谷瓦斯株式会社 について


代理人 (1件)： 金丸 章一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-026358
公開番号（公開出願番号）：特開2005-218885
出願日： 2004年02月03日
公開日（公表日）： 2005年08月18日
要約：
【課題】 酸化還元電位を管理することができ、かつ低い酸化還元電位を持つ水素水を安定的に製造し得る水素水製造装置を提供する。【解決手段】 純水中の溶存気体を脱気する脱気モジュール2から、水素水を製造する水素給気モジュール5に供給される脱気水の供給量が所定量になるように、給水ポンプ1aの回転数を制御して逆浸透膜フィルタ1cを介して不純物を除去した純水を脱気モジュール2に供給し、水素給気モジュール5から排出される水素水の酸化還元電位が予め定めた所定の範囲になるように、水素給気モジュール5に供給する水素量を制御すると共に、酸化還元電位が予め定めた所定の範囲になるまで水素給気モジュール5から排出される水素水を水素水戻しライン12を介して原水供給源に戻して循環させ、酸化還元電位が予め定めた所定の範囲になると、水素水排出弁8aを開弁する構成とする。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
給水ポンプ(1a)から供給される原水中の不純物を除去する逆浸透膜フィルタ(1c)が介装されてなる水供給ライン(1)を介して供給された純水中の溶存気体を脱気する脱気モジュール(2)と、この脱気モジュール(2)から流量計(4a)が介装されてなる脱気水供給ライン(4)が連通すると共に、水素量制御弁(7c)が介装されてなる水素供給ライン(7)が連通し、脱気水に水素を溶解させて水素水を製造する水素給気モジュール(5)と、この水素給気モジュール(5)に一端が接続され、水素水排出弁(8a)が介装されてなる水素水排出ライン(8)と、この水素水排出ライン(8)に排出される水素水の酸化還元電位を測定する酸化還元電位測定手段(9)と、前記流量計(4a)から脱気水の流量測定値が入力され、この流量測定値が設定した値になるように前記給水ポンプ(1a)の回転数を制御し、前記酸化還元電位測定手段(9)から入力される酸化還元電位が予め定めた所定の範囲になるように前記水素量制御弁(7c)の開度を制御すると共に、酸化還元電位が予め定めた所定の範囲になると、前記水素水排出弁(8a)を開弁制御するコントローラ(10)とから構成されてなることを特徴とする水素水製造装置。
IPC (6件)：
C02F1/68 ,  B01D19/00 ,  B01D61/00 ,  B01D61/04 ,  C02F1/20 ,  C02F1/44
FI (13件)：
C02F1/68 510B ,  C02F1/68 520B ,  C02F1/68 530A ,  C02F1/68 530K ,  C02F1/68 530L ,  C02F1/68 540D ,  C02F1/68 540Z ,  B01D19/00 H ,  B01D19/00 101 ,  B01D61/00 ,  B01D61/04 ,  C02F1/20 A ,  C02F1/44 H
Fターム (17件)：
4D006GA03 ,  4D006GA32 ,  4D006JA71 ,  4D006KA31 ,  4D006KA72 ,  4D006KB17 ,  4D006KB30 ,  4D006PA01 ,  4D006PB02 ,  4D006PB62 ,  4D006PC51 ,  4D011AA17 ,  4D037AA01 ,  4D037BA23 ,  4D037BB07 ,  4D037CA03 ,  4D037CA13
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (4件)
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