特許
J-GLOBAL ID：200903027270390880

水素溶解装置

発明者：
水谷 淳二

水谷 淳二 について

, 
井上 智裕

井上 智裕 について


出願人/特許権者：
株式会社ササクラ

株式会社ササクラ について


代理人 (1件)： 景山 憲二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-205264
公開番号（公開出願番号）：特開2002-018253
出願日： 2000年07月06日
公開日（公表日）： 2002年01月22日
要約：
【要約】【課題】 簡単な構成で必要な濃度の水素溶解水を製造する。【解決手続】 水素溶解装置は、充填材13aの入れられた気液接触層13上に散水ノズル12で超純水を供給して滞留部11に溜めるようにした溶解槽1、この中の水を循環させると共に製造された水素含有水を送水するようにした循環系2、その系に設けられ水素を混合供給するエゼクタ3、原料水としての超純水を供給する供給系4、等によって構成される。【効果】 装置構成が簡単で、半導体関連製品の高度表面処理に十分な濃度である1ppm 程度以上の高濃度の水素含有水を製造することができる。
請求項（抜粋）：
供給される原料水に供給される水素を溶解させて水素含有水にする水素溶解装置において、前記原料水が入れられ前記水素含有水が取り出されるように形成された縦長形状の容器であって前記水素を前記原料水と向流接触させて前記原料水に溶存している酸素を含む気体を脱気すると共に前記水素を溶解させる容器を有することを特徴とする水素溶解装置。
IPC (5件)：
B01F 3/04 ,  B01D 19/00 ,  B01D 53/14 ,  B01F 1/00 ,  B01F 5/18
FI (5件)：
B01F 3/04 F ,  B01D 19/00 F ,  B01D 53/14 C ,  B01F 1/00 A ,  B01F 5/18
Fターム (12件)：
4D011AA15 ,  4D020AA01 ,  4D020BA23 ,  4D020BC01 ,  4D020CB01 ,  4D020CB08 ,  4D020CB25 ,  4G035AA02 ,  4G035AB15 ,  4G035AB28 ,  4G035AC30 ,  4G035AC37
引用特許：
審査官引用 (6件)
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