プラズマ処理室におけるウェハバイアス補償方法及び装置

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：特許業務法人明成国際特許事務所
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-575158
公開番号（公開出願番号）：特表2002-527887
出願日： 1999年10月05日
公開日（公表日）： 2002年08月27日
要約：

【要約】プラズマ処理システムの処理室内の静電チャック上に配置されたウェハのバイアス電圧を補償する方法と装置が開示される。プラズマ処理システムは、静電チャックに接続される静電電源とRF電源を含む。バイアス補償装置は、電圧変換器、記憶ユニット、電圧調整回路を備える。電圧変換器は、静電チャックの電圧Vppを検出するために、静電チャックに接続される。電圧変換器は、検出電圧をより低い電圧Vrefに変換する。記憶ユニットは、校正曲線の所定の傾きとオフセットを記憶する。校正曲線は、複数のウェハバイアス電圧を静電チャック電圧の関数としてフィッティングさせることにより導出される。

請求項（抜粋）：

静電チャックに接続される静電電源とRF電源とを含むプラズマ処理システムの処理室内で、前記静電チャック上の所定の位置に配置されたウェハのバイアス電圧を補償するためのバイアス補償装置であって、前記静電チャックの電圧Vppを検出するために前記静電チャックに接続され、検出電圧をより低い電圧Vrefに変換する電圧変換器と、複数のウェハバイアス電圧を静電チャック電圧の関数としてフィッティングさせることにより導出される校正曲線の所定の傾きと所定のオフセットとを記憶する記憶ユニットと、前記電圧変換器から前記Vrefを受け取るように接続された電圧調整回路であって、前記傾きと前記オフセットにより前記Vrefを変更して前記バイアス電圧を補償するために前記記憶ユニットから前記傾きと前記オフセットを受け取るように接続されており、さらに、変更済のVrefを前記静電チャック電源に送り、前記静電チャック電源が前記変更済のVrefをバイアス補償電圧に変換して前記静電チャックに入力するように構成された電圧調整回路と、を備えるバイアス補償装置。

IPC (3件)：

H01L 21/68 , H01L 21/3065 , H02N 13/00

FI (3件)：

H01L 21/68 R , H02N 13/00 D , H01L 21/302 B

Fターム (14件)：

5F004BA04 , 5F004BA14 , 5F004BB22 , 5F004CA03 , 5F004CA06 , 5F004CA08 , 5F004CB05 , 5F031CA02 , 5F031CA11 , 5F031HA19 , 5F031HA39 , 5F031MA28 , 5F031MA29 , 5F031MA32

引用特許：

審査官引用 (5件)

プラズマ処理装置および当該装置で用いられる静電チャック吸着方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-212700 出願人：三菱電機株式会社
プラズマ装置及びプラズマ処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-217569 出願人：富士通株式会社
マイクロ波プラズマ処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-199672 出願人：株式会社日立製作所

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