投影露光装置、デバイス製造方法及び収差補正光学系

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：丸島儀一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-182044
公開番号（公開出願番号）：特開平10-027743
出願日： 1996年07月11日
公開日（公表日）： 1998年01月27日
要約：

【要約】【課題】非点収差を正確に検出し、確実に補正できる投影露光装置を提供すること。【解決手段】投影光学系4とウエハーWの間に厚さと屈折率が等しい2枚の平行平面板5a,5bを配し、調整手段9によりこの2枚の平行平面板を光学系4の光軸に対して互いに逆方向に同じ量だけ傾けることにより、露光により光学系4に生じた非点収差を補正する。露光により光学系4に生じた非点収差の量は、演算手段8が、光量センサ7の出力に基づいて得らる光学系4に入射した光の単位時間当たりの光量に基づいて計算する。

請求項（抜粋）：

投影光学系の非点収差を測定する測定手段と、該検出手段の検出結果に応じて前記投影光学系の非点収差を調節する調節手段とを有し、前記測定手段が、マスクに形成した縦と横の格子パターンを前記投影光学系により投影し、前記投影光学系の光軸方向に関する前記縦の格子パターンの結像位置と前記横の格子パターンの結像位置のずれ量を測定することを特徴とする投影露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (7件)：

H01L 21/30 518 , G03F 7/20 521 , H01L 21/30 515 D , H01L 21/30 515 F , H01L 21/30 516 A , H01L 21/30 525 A , H01L 21/30 527

引用特許：

審査官引用 (11件)

露光条件及び投影光学系の収差測定方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-209800 出願人：キヤノン株式会社
投影露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-260766 出願人：株式会社ニコン
投影露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-166504 出願人：株式会社ニコン

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