特許
J-GLOBAL ID：200903020117696185
静電吸着ホルダー及び基板処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
保立 浩一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-110701
公開番号（公開出願番号）：特開2004-006813
出願日： 2003年04月15日
公開日（公表日）： 2004年01月08日
要約：
【課題】基板の変形や位置ずれを抑えた優れた性能の静電吸着ホルダーを提供する【解決手段】吸着電極43に印加された電圧により誘電体プレート42を誘電分極させ、表面に板状の対象物9を静電吸着して保持する。誘電体プレート42と吸着電極43との間には誘電体プレート42と吸着電極43との中間の熱膨張率を持つ緩和層44が設けられ、吸着電極43の誘電体プレート42とは反対側には、同様に中間の熱膨張率を持つ被覆層45が設けられている。誘電体プレート42はアルミナより成り、吸着電極43はアルミニウムより成る。緩和層44はシリコンカーバイドとアルミニウムの複合材より成り、誘電体プレート42と緩和層44とは、インジウムを主成分とするろう材でろう付けされている。基板処理装置は、静電吸着ホルダーにより基板9を保持して処理を行う。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
板状の対象物を静電吸着して保持する静電吸着ホルダーであって、
表面が静電吸着面である誘電体プレートと、
誘電体プレートを誘電分極させる電圧が印加される吸着電極と
誘電体プレートと吸着電極との間に設けられているとともに誘電体プレートと吸着電極との中間の熱膨張率を持つ材料より成る緩和層と、
吸着電極の誘電体プレートとは反対側に設けられているともに誘電体プレートと吸着電極との中間の熱膨張率を持つ材料より成る被覆層と
を備えおり、
前記誘電体プレートはアルミナより成るものであって、前記吸着電極はアルミニウムより成るものであり、前記緩和層はシリコンカーバイドとアルミニウムの複合材より成るものであり、
前記誘電体プレートと前記緩和層とは、インジウムを主成分とするろう材でろう付けされていることを特徴とする静電吸着ホルダー。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/68 R
, H01L21/302 101G
5F004BA04
, 5F004BB11
, 5F004BB22
, 5F004BB25
, 5F004BB29
, 5F004CA04
, 5F004DA16
, 5F031CA02
, 5F031HA02
, 5F031HA18
, 5F031HA39
, 5F031HA40
, 5F031MA32
, 5F031PA11
