特許
J-GLOBAL ID:200903020356067459

真空蒸着装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 小橋 信淳 ,  小橋 立昌
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-305379
公開番号(公開出願番号):特開2004-137583
出願日: 2002年10月21日
公開日(公表日): 2004年05月13日
要約:
【課題】蒸着材料の利用効率を向上させ、形成される薄膜の品質を向上させ、大面積の基板に対して均一な蒸着を行う。【解決手段】積層された枠体10A,10Bからなる蒸着源10を採用し、最底層の枠体10Aによって加熱部11を形成し、他の層の枠体10Bによって蒸発流制御部11を形成する。【選択図】 図2
請求項(抜粋):
積層された枠体からなる蒸着源を備え、該枠体の最底層は、有機材料を収容して該有機材料を加熱蒸発させる加熱部を形成し、前記枠体の他の層は、前記加熱部から蒸着対象に向かう蒸着流の方向を制御する蒸着流制御部を形成することを特徴とする真空蒸着装置。
IPC (4件):
C23C14/24 ,  C23C14/12 ,  H05B33/10 ,  H05B33/14
FI (5件):
C23C14/24 A ,  C23C14/24 G ,  C23C14/12 ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 A
Fターム (13件):
3K007AB18 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  4K029BA62 ,  4K029BC07 ,  4K029BD00 ,  4K029CA01 ,  4K029DA00 ,  4K029DB06 ,  4K029DB12 ,  4K029DB14 ,  4K029DB19 ,  4K029EA07
引用特許:
審査官引用 (6件)
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