特許
J-GLOBAL ID：200903020365293550
ケイ素系ポリマーの製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小島 隆司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-210553
公開番号（公開出願番号）：特開2001-040210
出願日： 1999年07月26日
公開日（公表日）： 2001年02月13日
要約：
【要約】【解決手段】 アルカリ金属又はアルカリ土類金属を還元剤としてハロゲン化ケイ素化合物の縮重合反応を行い、ケイ素系ポリマーを得た後、アルカリ金属又はアルカリ土類金属により安定なラジカルアニオン種を形成し得る化合物又はそのアルカリ金属もしくはアルカリ土類金属塩を電子移動反応剤として系内に添加して、残存するケイ素-ハロゲン結合と反応させることを特徴とする酸素含有率の低いケイ素系ポリマーの製造方法。【効果】 本発明によれば、酸素含有率の低いケイ素系ポリマーを効率よく安価に製造することができる。
請求項（抜粋）：
アルカリ金属又はアルカリ土類金属を還元剤としてハロゲン化ケイ素化合物の縮重合反応を行い、ケイ素系ポリマーを得た後、アルカリ金属又はアルカリ土類金属により安定なラジカルアニオン種を形成し得る化合物又はそのアルカリ金属もしくはアルカリ土類金属塩を電子移動反応剤として系内に添加して、残存するケイ素-ハロゲン結合と反応させることを特徴とする酸素含有率の低いケイ素系ポリマーの製造方法。
Fターム (3件)：
4J002CP211
, 4J002GP00
, 4J002GQ02
