特許
J-GLOBAL ID:200903020488140821

ガス浄化方法およびガス浄化装置

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-373626
公開番号(公開出願番号):特開2001-187319
出願日: 1999年12月28日
公開日(公表日): 2001年07月10日
要約:
【要約】【課題】 プラズマ作用と光触媒作用との相乗的作用により、有害成分を含む浄化対象ガスの無害化を高効率で行えるガス浄化装置を提供する。【解決手段】 光触媒層3Cが形成された一方の電極3と、これに対向する他方の電極2を有し、これら対向電極2,3の間でプラズマPを生じさせる電源4と、プラズマP中に浄化対象ガスを流してプラズマ化する浄化対象ガス送給流路5を備え、プラズマP中にNOx,SOx等の分解すべき成分を含む浄化対象ガスを流し、分解すべき成分を浄化対象ガスのプラズマ化により化学励起させて分解すると共に、プラズマの発光に起因する光により光触媒反応を効率良く進行させて浄化対象ガス中の分解すべき成分の分解を促進するようにしたガス浄化装置1。
請求項(抜粋):
少なくとも一方を光触媒処理した電極の間でプラズマを生じさせ、前記プラズマ中にNOx,SOx等の分解すべき成分を含む浄化対象ガスを流し、前記分解すべき成分を前記浄化対象ガスのプラズマ化により化学励起させて分解すると共に、前記プラズマの発光に起因する光により光触媒反応を効率良く進行させて前記浄化対象ガス中の分解すべき成分の分解を促進することを特徴とするガス浄化方法。
IPC (9件):
B01D 53/86 ZAB ,  B01D 53/86 ,  B01D 53/60 ,  B01D 53/74 ,  B01D 53/94 ,  B01J 21/06 ,  B01J 35/02 ,  B08B 7/00 ,  F01N 3/08
FI (8件):
B01J 21/06 A ,  B01J 35/02 J ,  B08B 7/00 ,  F01N 3/08 C ,  B01D 53/36 ZAB J ,  B01D 53/34 132 Z ,  B01D 53/36 D ,  B01D 53/36 101 A
Fターム (40件):
3B116AA46 ,  3B116AB01 ,  3B116BC01 ,  3G091AA17 ,  3G091AA18 ,  3G091AB01 ,  3G091AB14 ,  3G091BA14 ,  3G091BA20 ,  3G091GB01W ,  3G091GB10W ,  3G091HA07 ,  4D002AA02 ,  4D002AA12 ,  4D002AB01 ,  4D002AC01 ,  4D002BA07 ,  4D002BA20 ,  4D002DA07 ,  4D002DA11 ,  4D002DA21 ,  4D048AA02 ,  4D048AA06 ,  4D048AB03 ,  4D048BA07X ,  4D048BA07Y ,  4D048BA41X ,  4D048BA41Y ,  4D048CC31 ,  4D048EA01 ,  4D048EA02 ,  4D048EA03 ,  4G069AA15 ,  4G069BA04A ,  4G069BA04B ,  4G069BA48A ,  4G069CA03 ,  4G069CA12 ,  4G069CA13 ,  4G069FB58
引用特許:
審査官引用 (9件)
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