特許
J-GLOBAL ID：200903020522143550

微小開口を有する突起の製造方法と微小開口を有する突起、及びそれらによるプローブまたはマルチプローブ

発明者：
島田 康弘

島田 康弘 について

, 
山崎 剛生

山崎 剛生 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 長尾 達也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-244803
公開番号（公開出願番号）：特開平11-066650
出願日： 1997年08月26日
公開日（公表日）： 1999年03月09日
要約：
【要約】【課題】本発明は、微小な開口を再現性良く形成することができ、また、基板上に集積化が容易で、複数の微小開口を形成したときに開口径のばらつきが小さく、バッチプロセスでの形成により生産性の高い、微小開口を有する突起の製造方法と微小開口を有する突起、及びそれらによるプローブまたはマルチプローブを提供することを目的としている。【解決手段】本発明の微小開口を有する突起の製造方法または微小開口を有する突起は、表面に先端部が先鋭化された形状を有する凹部が形成された第1基板を備え、該第1基板に形成された凹部の先端部を除いて遮光材料を堆積することによって、先端部に微小開口を有する遮光層からなる突起を形成し、該突起を第2基板に転写することを特徴とするものであり、また、本発明はそれらによって構成したプローブまたはマルチプローブを提供することを特徴とするものである。
請求項（抜粋）：
微小開口を有する突起の製造方法であって、表面に先端部が先鋭化された形状を有する凹部が形成された第1基板を備え、該第1基板に形成された凹部の先端部を除いて遮光材料を堆積することによって、先端部に微小開口を有する遮光層からなる突起を形成し、該突起を第2基板に転写することを特徴とする微小開口を有する突起の製造方法。
IPC (2件)：
G11B 9/00 ,  G01N 37/00
FI (2件)：
G11B 9/00 ,  G01N 37/00 E
引用特許：
審査官引用 (4件)
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