特許
J-GLOBAL ID：200903020541353158

化学増幅型レジスト組成物用の酸発生剤

発明者：
ジュン-フン オー

ジュン-フン オー について

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ドン-チョル ソ

ドン-チョル ソ について

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ヒュン-サン ジョ

ヒュン-サン ジョ について

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チャン-ス イ

チャン-ス イ について


出願人/特許権者：
コリア クンホ ペトロケミカル カンパニー リミテッド

コリア クンホ ペトロケミカル カンパニー リミテッド について


代理人 (2件)： 藤田 和子 ,  新山 雄一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-165377
公開番号（公開出願番号）：特開2009-221454
出願日： 2008年06月25日
公開日（公表日）： 2009年10月01日
要約：
【課題】化学増幅型レジスト組成物において優れた解像度とライン幅ラフネスを有し、ArF液浸工程において水への溶出の少ない新規な酸発生剤を提供する。【解決手段】酸発生剤は下記化学式1で表される。式中、Xは炭素数3〜30の単環または多環式の炭化水素基で、少なくとも1つ以上の水素がエーテル基、エステル基、カルボニル基、アセタール基、エポキシ基、ニトリル基、またはアルデヒド基を含んでもよい炭素数1〜10のアルキルまたはアルコキシ基、炭素数1〜4のペルフルオロアルキル基、炭素数1〜10のヒドロキシアルキル基またはシアノ基を表し、R6は炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のアルコキシまたはN、SおよびFからなる群から選択されるヘテロ原子であり、mは0〜2の整数であり、A+は有機対イオンである。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
下記化学式1で表される酸発生剤。
IPC (3件)：
C09K 3/00 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027
FI (3件)：
C09K3/00 K ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R
Fターム (19件)：
2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BF02 ,  2H025BF11 ,  2H025BG00 ,  2H025CC20 ,  2H025FA01 ,  2H025FA10 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4H006AA03 ,  4H006AB78
引用特許：
審査官引用 (6件)
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