特許
J-GLOBAL ID：200903051036707878
2-(アルキルカルボニルオキシ)-1,1-ジフルオロエタンスルホン酸塩類およびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
花田 吉秋
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-210510
公開番号（公開出願番号）：特開2009-091351
出願日： 2008年08月19日
公開日（公表日）： 2009年04月30日
要約：
【課題】化学増幅型レジスト材料に用いられる光酸発生剤などとして有用な、2-アルキルカルボニルオキシ-1,1-ジフルオロエタンスルホン酸オニウム塩を製造するための有用な中間体および工業的な製造方法を提供する。【解決手段】カルボン酸ブロモジフルオロエチルエステルを、スルフィン化剤を用いてスルフィン化する際に、有機塩基を使用することによって、2-(アルキルカルボニルオキシ)-1,1-ジフルオロエタンスルフィン酸アンモニウム塩を得る。これを酸化して2-(アルキルカルボニルオキシ)-1,1-ジフルオロエタンスルホン酸アンモニウム塩を得る。これを原料とし、オニウム塩に交換するか、鹸化・エステル化を経てオニウム塩に交換することで、2-アルキルカルボニルオキシ-1,1-ジフルオロエタンスルホン酸オニウム塩類を得る。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
下記一般式[2]で表されることを特徴とするスルフィン酸アンモニウム塩。
IPC (5件)：
C07C 313/04
, C07C 309/12
, C07C 303/02
, C07C 303/44
, C07C 381/12
C07C313/04
, C07C309/12
, C07C303/02
, C07C303/44
, C07C381/12
4H006AA01
, 4H006AA02
, 4H006AB78
, 4H006AC60
, 4H006AC61
, 4H006AD16
出願人引用 (5件)
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レジスト組成物
公報種別：公開公報
出願番号：特願2002-282756
出願人：JSR株式会社
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ポジ型感光性組成物
公報種別：公開公報
出願番号：特願2001-132546
出願人：富士写真フイルム株式会社
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ポジ型レジスト組成物
公報種別：公開公報
出願番号：特願2003-039501
出願人：住友化学工業株式会社
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審査官引用 (6件)
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