特許
J-GLOBAL ID:200903020932458574
有機薄膜デバイスの有機膜に対する電荷の注入を改善する方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (6件):
特許業務法人広江アソシエイツ特許事務所
, 廣江 武典
, 武川 隆宣
, ▲高▼荒 新一
, 西尾 務
, 神谷 英昭
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-520622
公開番号(公開出願番号):特表2008-506241
出願日: 2005年07月11日
公開日(公表日): 2008年02月28日
要約:
有機薄膜デバイスの製造方法であって:有機物を第一の溶媒に溶かし第一溶液を提供する工程;無機塩を第二の溶媒に溶かし第二溶液を提供する工程;前記第一溶液と前記第二溶液を混合して混合液を提供する工程;有機薄膜デバイスの製造のために、前記混合液を使用して無機塩がドープ(dope)された有機薄膜を形成する工程を有する。また、無機塩は、直接有機物溶液に添加して無機塩ドープの有機物溶液とすることができ、それを用いて有機薄膜を形成し、有機薄膜デバイスにすることができる。【選択図】図3
請求項(抜粋):
有機薄膜デバイスの製造方法であって:
有機物を第一の溶媒に溶かし第一溶液を提供する工程;
無機塩を第二の溶媒に溶かし第二溶液を提供する工程;
前記第一溶液と前記第二溶液を混合して混合液を提供する工程;
有機薄膜デバイスの製造のために、前記混合液を使用して無機塩でドープ(dope)された有機薄膜を形成する工程;
とを含むことを特徴とする有機薄膜デバイスの製造方法。
IPC (4件):
H05B 33/10
, H01L 51/05
, H01L 51/30
, H01L 51/50
FI (4件):
H05B33/10
, H01L29/28 100A
, H01L29/28 220A
, H05B33/14 A
Fターム (12件):
3K107AA01
, 3K107BB01
, 3K107CC04
, 3K107CC21
, 3K107DD53
, 3K107DD56
, 3K107DD58
, 3K107DD69
, 3K107DD70
, 3K107FF14
, 3K107GG06
, 3K107GG08
引用特許:
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