特許
J-GLOBAL ID:200903020932458574

有機薄膜デバイスの有機膜に対する電荷の注入を改善する方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (6件): 特許業務法人広江アソシエイツ特許事務所 ,  廣江 武典 ,  武川 隆宣 ,  ▲高▼荒 新一 ,  西尾 務 ,  神谷 英昭
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-520622
公開番号(公開出願番号):特表2008-506241
出願日: 2005年07月11日
公開日(公表日): 2008年02月28日
要約:
有機薄膜デバイスの製造方法であって:有機物を第一の溶媒に溶かし第一溶液を提供する工程;無機塩を第二の溶媒に溶かし第二溶液を提供する工程;前記第一溶液と前記第二溶液を混合して混合液を提供する工程;有機薄膜デバイスの製造のために、前記混合液を使用して無機塩がドープ(dope)された有機薄膜を形成する工程を有する。また、無機塩は、直接有機物溶液に添加して無機塩ドープの有機物溶液とすることができ、それを用いて有機薄膜を形成し、有機薄膜デバイスにすることができる。【選択図】図3
請求項(抜粋):
有機薄膜デバイスの製造方法であって: 有機物を第一の溶媒に溶かし第一溶液を提供する工程; 無機塩を第二の溶媒に溶かし第二溶液を提供する工程; 前記第一溶液と前記第二溶液を混合して混合液を提供する工程; 有機薄膜デバイスの製造のために、前記混合液を使用して無機塩でドープ(dope)された有機薄膜を形成する工程; とを含むことを特徴とする有機薄膜デバイスの製造方法。
IPC (4件):
H05B 33/10 ,  H01L 51/05 ,  H01L 51/30 ,  H01L 51/50
FI (4件):
H05B33/10 ,  H01L29/28 100A ,  H01L29/28 220A ,  H05B33/14 A
Fターム (12件):
3K107AA01 ,  3K107BB01 ,  3K107CC04 ,  3K107CC21 ,  3K107DD53 ,  3K107DD56 ,  3K107DD58 ,  3K107DD69 ,  3K107DD70 ,  3K107FF14 ,  3K107GG06 ,  3K107GG08
引用特許:
審査官引用 (11件)
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