毛管現象による塗工ノズルを用いた有機ELパネルの製造装置及び製造方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：蔦田璋子 , 蔦田正人 , 中村哲士 , 富田克幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-326159
公開番号（公開出願番号）：特開2004-164873
出願日： 2002年11月08日
公開日（公表日）： 2004年06月10日
要約：

【課題】塗工液の塗布による薄膜形成工程を含む有機ELパネルの製造装置及び製造方法において、生産性や塗工液の利用効率を効率を高く保ちつつ、塗工膜の品質を均一に高く保つことができるものを提供する。【解決手段】毛管現象により塗工液を吐出口へと導く塗工液上昇経路を有する塗工ノズルと、前記塗工液上昇経路の下端に連通され大気圧下で塗工液を貯留する塗工液貯留部と、塗工対象の基材の下面を前記吐出口に近接させつつ前記基材を前記塗工ノズルに対して移動させる移動手段とを備える塗工装置を用いる。特に、塗工液について、粘度を0.3〜30mPa・s、比重を1.6以下に保ち、これにより膜厚のバラツキを±5%以内とする。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

毛管現象により塗工液を吐出口へと導く塗工液上昇経路を有する塗工ノズルと、前記塗工液上昇経路の下端に連通され大気圧下で塗工液を貯留する塗工液貯留部と、塗工対象の基材の下面を前記吐出口に近接させつつ前記基材を前記塗工ノズルに対して移動させる移動手段とを備える塗工装置を含む平面表示装置の製造装置であって、前記塗工装置は、温度を室温付近の所定範囲内に管理可能であって、かつ、湿度及び酸素濃度を所定値以下に管理可能なチャンバー内に配置され、このチャンバーと外部との受け渡し経路には、防塵手段が配されたことを特徴とする平面表示装置の製造装置。

IPC (5件)：

H05B33/10 , B05C5/02 , B05C15/00 , B05D1/26 , H05B33/14

FI (5件)：

H05B33/10 , B05C5/02 , B05C15/00 , B05D1/26 Z , H05B33/14 A

Fターム (48件)：

3K007AB11 , 3K007AB18 , 3K007DB03 , 3K007FA01 , 4D075AC02 , 4D075AC03 , 4D075AC72 , 4D075AC92 , 4D075AC93 , 4D075AC94 , 4D075AC96 , 4D075CA48 , 4D075DA06 , 4D075DB13 , 4D075DB14 , 4D075DB48 , 4D075DB55 , 4D075DC24 , 4D075EA07 , 4D075EB07 , 4D075EB13 , 4D075EB22 , 4D075EB38 , 4D075EB39 , 4D075EC07 , 4F041AA02 , 4F041AA05 , 4F041AB02 , 4F041BA05 , 4F041BA12 , 4F041BA22 , 4F041BA57 , 4F041CA02 , 4F041CA12 , 4F041CA23 , 4F042AA02 , 4F042AA10 , 4F042BA04 , 4F042BA08 , 4F042BA15 , 4F042BA27 , 4F042DA01 , 4F042DA08 , 4F042DB02 , 4F042DB12 , 4F042DE01 , 4F042DE10 , 4F042ED05

引用特許：

審査官引用 (4件)

薄膜の形成方法、及び形成装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-297394 出願人：カシオ計算機株式会社
発光装置の作製方法および薄膜形成装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-388187 出願人：株式会社半導体エネルギー研究所
基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-310780 出願人：東京エレクトロン株式会社

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