特許
J-GLOBAL ID:200903021080043263

キャリアヘッド、止め環およびパッド調整機構の傾きを制御するための化学機械研磨装置および方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 特許業務法人明成国際特許事務所
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-528461
公開番号(公開出願番号):特表2004-508962
出願日: 2001年09月21日
公開日(公表日): 2004年03月25日
要約:
【課題】化学機械研磨に備えて止め環およびウエハヘッドの傾きを制御するための装置および方法【解決手段】CMPシステムは、ウエハまたは調整パックのキャリアに加えられる偏心力を、繰り返し測定する。キャリアに加えられた力は、たとえ偏心して加えられた場合でも、高精度に測定することが可能である。回転軸とキャリア軸(212)との間の初期の同軸関係は、偏心力(FP-W)の作用期間中ずっと維持されるので、センサ(263)は、偏心力を繰り返し測定することができる。このとき、キャリア(208)は、ウエハキャリアまたはパックキャリアで良い。このような初期の同軸関係は、キャリア(208)とセンサ(263)との間に搭載された直動軸受アセンブリ(232)によって維持される。直動軸受アセンブリは、個々の複数の直動軸受アセンブリからなる配列のかたちで提供され、これらの個々の直動軸受アセンブリは、キャリアによって運ばれるウエハまたはパックなどの直径とは無関係にそれぞれ採寸される。直動軸受アセンブリは、止め環(282)を有するように構成されて良い。【選択図】図2A
請求項(抜粋):
ウエハ軸を有した半導体ウエハを搭載し、回転軸を有した化学機械研磨パッドと連係させるための装置であって、 中心軸を有した連結部と、 前記ウエハ軸が前記中心軸と同軸で且つ前記回転軸に平行となる初期状態で、前記ウエハを搭載するためのチャックを備え、前記チャックは、前記研磨パッドから研磨力を受けるように適用されており、前記研磨力は、前記回転軸に平行で且つ前記ウエハ軸から偏心して加えられ、前記ウエハ軸が前記中心軸との間に有する初期の同軸関係からずれて前記ウエハが傾くよう前記チャックを傾かせる傾向があり、 前記連結部に固定され、前記連結部によって前記中心軸に沿って固定の位置に配置された第1のユニットと、前記チャックに固定され、前記第1のユニットに対して相対的に可動な第2のユニットとを有し直動、前記第1のユニットおよび前記第2のユニットは、前記チャックおよび前記ウエハが傾こうとする傾向に抗ずるために互いに連係しあい、前記第2のユニット、前記チャック、およびその上の前記ウエハが前記第1のユニットに対して相対的に運動するあいだ、前記ウエハ軸を前記中心軸と同軸で且つ前記回転軸に平行な状態に維持する直動軸受アセンブリを備える直動装置。
IPC (4件):
B24B37/00 ,  B24B37/04 ,  B24B49/16 ,  H01L21/304
FI (5件):
B24B37/00 B ,  B24B37/04 E ,  B24B49/16 ,  H01L21/304 622K ,  H01L21/304 622R
Fターム (14件):
3C034AA19 ,  3C034BB71 ,  3C034BB91 ,  3C034CA16 ,  3C034CB08 ,  3C034DD10 ,  3C058AA07 ,  3C058AB04 ,  3C058AB06 ,  3C058BA01 ,  3C058BA05 ,  3C058CB01 ,  3C058CB03 ,  3C058DA17
引用特許:
審査官引用 (5件)
  • 研磨装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平11-086871   出願人:株式会社荏原製作所
  • 平面状物の保持装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平10-375618   出願人:ペーター・ヴォルタース・ヴェルクツォイクマシーネン・ゲーエムベーハー
  • ポリッシング装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平10-264837   出願人:株式会社東芝
全件表示

前のページに戻る