特許
J-GLOBAL ID：200903021179705810

多段スピン型基板処理システム

発明者：
木村 義雄

木村 義雄 について

, 
上田 一成

上田 一成 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-177627
公開番号（公開出願番号）：特開2000-012443
出願日： 1998年06月24日
公開日（公表日）： 2000年01月14日
要約：
【要約】【目的】 高スループットであり、フットプリントが小さく、十分にパーティクル対策された多段スピン型基板処理システムを提供する。【構成】 上下多段に積み重ねられた複数のコンパートメント40を有する多段スピンユニット9 と、ウェハホルダと、このウェハホルダを前後に進退移動させ、かつ垂直軸に沿って昇降移動させ、かつ垂直軸回りに旋回移動させる駆動手段とを備えた主アーム機構24と、各コンパートメントに設けられ主アーム機構により搬入されたウェハを保持しスピン回転させるスピンチャックSCと、このスピンチャックの周囲を取り囲み、基板から遠心分離される処理液を受けて排出するカップCPと、を具備し、コンパートメント内のスピンチャックに保持された基板に向けて処理液を供給する共用ノズル52と、多段スピンユニットに沿って設けられ、各コンパートメントに連通し、共用ノズルが移動するためのノズル移動通路51と、共用ノズルを移動させるノズル移動機構53,54,55と、を具備する。
請求項（抜粋）：
上下多段に積み重ねられた複数のコンパートメントを有する多段スピンユニットと、前記コンパートメントの各々に被処理基板を出し入れするために、被処理基板を保持するホルダと、このホルダを前後に進退移動させ、かつ垂直軸に沿って昇降移動させ、かつ垂直軸回りに旋回移動させる駆動手段とを備えた主アーム機構と、前記コンパートメントの各々に設けられ、前記主アーム機構により搬入された基板を保持し、スピン回転させるスピンチャックと、このスピンチャックの周囲を取り囲み、基板から遠心力により分離される処理液を受けて排出するカップと、を具備し、上記コンパートメント内のスピンチャックに保持された基板に向けて処理液をそれぞれ供給する共用ノズルと、上記多段スピンユニットに沿って設けられ、上記各コンパートメントに連通し、前記共用ノズルが移動するためのノズル移動通路と、前記共用ノズルを移動させるノズル移動機構と、を具備することを特徴とする多段スピン型基板処理システム。
IPC (6件)：
H01L 21/027 ,  B05C 11/08 ,  B05D 1/40 ,  H01L 21/68 ,  G03F 7/16 502 ,  G03F 7/30 502
FI (7件)：
H01L 21/30 564 C ,  B05C 11/08 ,  B05D 1/40 A ,  H01L 21/68 A ,  G03F 7/16 502 ,  G03F 7/30 502 ,  H01L 21/30 569 C
Fターム (44件)：
2H025AB15 ,  2H025AB16 ,  2H025EA05 ,  2H096AA25 ,  2H096AA26 ,  2H096CA14 ,  2H096CA20 ,  4D075AC64 ,  4D075AC78 ,  4D075AC84 ,  4D075AC86 ,  4D075AC88 ,  4D075BB21Z ,  4D075BB56Y ,  4D075CA48 ,  4D075DA07 ,  4D075DB14 ,  4D075DC22 ,  4D075EA45 ,  4F042AA07 ,  4F042EB02 ,  4F042EB08 ,  4F042EB21 ,  4F042EB24 ,  4F042EB30 ,  5F031CC01 ,  5F031CC12 ,  5F031CC13 ,  5F031KK03 ,  5F031KK06 ,  5F031LL01 ,  5F046HA01 ,  5F046JA02 ,  5F046JA03 ,  5F046JA05 ,  5F046JA07 ,  5F046JA08 ,  5F046JA22 ,  5F046JA24 ,  5F046KA07 ,  5F046LA03 ,  5F046LA04 ,  5F046LA07 ,  5F046LA18
引用特許：
出願人引用 (7件)
  • 処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-323166   出願人：東京エレクトロン株式会社
  • 回転式基板処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-099963   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
  • 処理システム
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-137263   出願人：東京エレクトロン株式会社
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審査官引用 (7件)
  • 処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-323166   出願人：東京エレクトロン株式会社
  • 処理システム
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-137263   出願人：東京エレクトロン株式会社
  • 特開平4-118074
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