処理装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：須山佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-323166
公開番号（公開出願番号）：特開平10-163293
出願日： 1996年12月03日
公開日（公表日）： 1998年06月19日
要約：

【要約】【課題】搬送装置からみた各処理室に対するアクセス角度を等しくでき、機械的機構及び制御面において構成の簡略化を図ること。【解決手段】第1の処理ユニット群G1 のレジスト塗布ユニット(COT)と第2の処理ユニット群G2 のレジスト塗布ユニット(COT)とは以上のように同一構成であるが、各部が2つのユニット間で相互に対称となるように各ユニット内に配置されている。すなわちカップCPは各ユニットのほぼ中央部に配置され、リンスノズル124等からなる各ユニットのサイドリンス部は隣接する2つのユニットの境界線の近傍に配置され、各ユニットのレジスト塗布部はそれぞれカップCPを挟んでサイドリンス部と対向するように配置されている。

請求項（抜粋）：

被処理体に対して所定の処理を行う第1の処理室と、前記第1の処理室と隣接して配置されると共に、前記第1の処理室内の配置とは対称的に内部が配置され、かつ、前記被処理体に対して所定の処理を行う第2の処理室とを具備することを特徴とする処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/68 , H01L 21/02 , H01L 21/027

FI (4件)：

H01L 21/68 A , H01L 21/02 Z , H01L 21/30 564 C , H01L 21/30 569 C

引用特許：

出願人引用 (6件)

塗布装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-259154 出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
回転式基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-097265 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
特開平1-302819

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審査官引用 (4件)

塗布装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-259154 出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
回転式基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-097265 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
特開平1-302819

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