基板処理装置

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大山浩明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-100584
公開番号（公開出願番号）：特開2006-286682
出願日： 2005年03月31日
公開日（公表日）： 2006年10月19日
要約：

【課題】例えば処理済の基板上に付着した腐食性ガスなど処理ガスのガス成分が搬送室などの排気とともにそのまま外部へ排出されることを防止し,工場の排気設備などの負担を軽減する。【解決手段】ウエハに所定の処理を施すための処理ユニットと,この処理ユニットに対してウエハを搬出入する搬送室200とを備える基板処理装置であって,搬送室200は,搬送室200内へ外気を導入する給気部230と,給気部230に対向して設けられ,搬送室200内を排気する排気部250と,排気部250に設けられ,排気に含まれる少なくとも有害成分を除去する有害成分除去フィルタ256からなる排気フィルタ手段254とを設けた。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

被処理基板に所定の処理を施すための処理ユニットと,この処理ユニットに対して被処理基板を搬出入する搬送室とを備える基板処理装置であって, 前記搬送室は, 前記搬送室内へ外気を導入する給気部と, 前記給気部に対向して設けられ,前記搬送室内を排気する排気部と, 前記排気部に設けられ,前記排気をフィルタリングする排気フィルタ手段と, を備えることを特徴とする基板処理装置。

IPC (8件)：

H01L 21/677 , B01D 46/00 , B01D 53/04 , B65G 49/00 , F24F 7/06 , H01L 21/205 , H01L 21/306 , B01D 53/68

FI (9件)：

H01L21/68 A , B01D46/00 F , B01D53/04 A , B65G49/00 A , F24F7/06 C , H01L21/205 , H01L21/302 101G , B01D53/34 134A , B01D53/34 134C

Fターム (56件)：

3L058BF01 , 3L058BF03 , 4D002AA18 , 4D002AA19 , 4D002AA24 , 4D002AC10 , 4D002BA04 , 4D002DA03 , 4D002DA16 , 4D002DA41 , 4D002HA01 , 4D012BA03 , 4D012CA10 , 4D012CB02 , 4D012CG01 , 4D012CH01 , 4D058JA12 , 4D058SA04 , 4D058TA02 , 4D058TA03 , 5F004AA14 , 5F004BC06 , 5F004BD04 , 5F004DA00 , 5F004DA20 , 5F031CA02 , 5F031DA01 , 5F031FA01 , 5F031FA07 , 5F031FA11 , 5F031FA12 , 5F031FA15 , 5F031GA43 , 5F031GA47 , 5F031GA48 , 5F031GA49 , 5F031GA50 , 5F031JA34 , 5F031JA35 , 5F031KA13 , 5F031KA14 , 5F031LA08 , 5F031MA04 , 5F031MA28 , 5F031MA32 , 5F031NA05 , 5F031NA09 , 5F031NA15 , 5F031PA23 , 5F045AA03 , 5F045BB14 , 5F045DQ15 , 5F045DQ17 , 5F045EB08 , 5F045EG01 , 5F045EN04

引用特許：

出願人引用 (2件)

特許2001-15578号公報
処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-008515 出願人：東京エレクトロン東北株式会社

審査官引用 (8件)

局所クリーンシステム
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-365914 出願人：株式会社日立製作所, 日立テクノエンジニアリング株式会社
処理装置及び処理装置内の気体の制御方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-230221 出願人：東京エレクトロン株式会社
自動搬送装置、半導体装置の生産システム及び半導体装置の生産管理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-326381 出願人：株式会社半導体エネルギー研究所

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