特許
J-GLOBAL ID：200903021652472764

有機エレクトロルミネッセンス装置とその製造方法及び電子機器

発明者：
林 建二

林 建二 について


出願人/特許権者：
セイコーエプソン株式会社

セイコーエプソン株式会社 について


代理人 (3件)： 西 和哉 ,  志賀 正武 ,  青山 正和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-234569
公開番号（公開出願番号）：特開2008-059867
出願日： 2006年08月30日
公開日（公表日）： 2008年03月13日
要約：
【課題】ガスバリア層の損傷を防ぎつつ、額縁部を縮小できる有機エレクトロルミネッセンス装置とその製造方法及び電子機器を提供する。【解決手段】一対の電極10,11の間に有機発光層12を挟持した複数の発光素子21を有する素子基板20Aと、素子基板20Aに対向配置された封止基板31と、素子基板20Aと封止基板31との間の周辺部に、素子基板20Aと封止基板31とを固定する周辺シール層33と、が設けられた有機エレクトロルミネッセンス装置1において、隔壁13及び発光素子21を被覆する電極保護層17と、電極保護層17を被覆する有機緩衝層18と、有機緩衝層18を被覆するガスバリア層19と、が形成され、さらに、ガスバリア層19は、有機緩衝層18よりも広く形成され、周辺シール層33は、ガスバリア層19の上層に設けられ、周辺シール層33の幅内に有機緩衝層18の周辺端部が配置されることを特徴とする。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
一対の電極の間に有機発光層を挟持した複数の発光素子を有する素子基板と、 前記素子基板に対向配置された封止基板と、 前記素子基板と前記封止基板との間の周辺部に、前記素子基板と前記封止基板とを固定する周辺シール層と、が設けられた有機エレクトロルミネッセンス装置において、 前記発光素子を被覆する電極保護層と、 前記電極保護層を被覆する有機緩衝層と、 前記有機緩衝層を被覆するガスバリア層と、が形成され、 さらに、前記ガスバリア層は、前記有機緩衝層よりも広く形成され、 前記周辺シール層は、前記ガスバリア層の上層に設けられ、 前記周辺シール層の幅内に前記有機緩衝層の周辺端部が配置されることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス装置。
IPC (3件)：
H05B 33/04 ,  H05B 33/10 ,  H01L 51/50
FI (3件)：
H05B33/04 ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 A
Fターム (13件)：
3K107AA01 ,  3K107BB01 ,  3K107CC23 ,  3K107CC43 ,  3K107EE42 ,  3K107EE48 ,  3K107EE49 ,  3K107EE50 ,  3K107EE54 ,  3K107EE55 ,  3K107FF15 ,  3K107GG06 ,  3K107GG28
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (7件)
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