特許
J-GLOBAL ID：200903021910544678

蛍光体パターンの形成方法

発明者：
出水 司

出水 司 について


出願人/特許権者：
日本合成化学工業株式会社

日本合成化学工業株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-233355
公開番号（公開出願番号）：特開2001-057151
出願日： 1999年08月20日
公開日（公表日）： 2001年02月27日
要約：
【要約】【課題】 蛍光体の発光強度に優れた蛍光体パターンの形成方法を提供すること。【解決手段】 基板に、蛍光体含有感光性樹脂組成物(A)を積層し、露光、現像を行い、蛍光体含有レジストパターンを形成した後、該蛍光体含有レジストパターンの凹部に、エチレン性不飽和化合物(B)と自己開裂型光重合開始剤(C)からなる感光性樹脂組成物(D)を充填し、光硬化する蛍光体パターンの形成方法。
請求項（抜粋）：
基板に、蛍光体含有感光性樹脂組成物(A)を積層し、露光、現像を行い、蛍光体含有レジストパターンを形成した後、該蛍光体含有レジストパターンの凹部に、エチレン性不飽和化合物(B)と自己開裂型光重合開始剤(C)からなる感光性樹脂組成物(D)を充填し、光硬化することを特徴とする蛍光体パターンの形成方法。
IPC (3件)：
H01J 9/227 ,  G03F 7/40 521 ,  H01J 11/02
FI (3件)：
H01J 9/227 E ,  G03F 7/40 521 ,  H01J 11/02 B
Fターム (18件)：
2H096AA27 ,  2H096BA05 ,  2H096BA20 ,  2H096CA16 ,  2H096EA02 ,  2H096GA08 ,  2H096HA30 ,  2H096JA04 ,  5C028FF08 ,  5C028FF11 ,  5C028FF16 ,  5C040FA01 ,  5C040FA02 ,  5C040GA03 ,  5C040GG09 ,  5C040MA03 ,  5C040MA22 ,  5C040MA23
引用特許：
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (8件)
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