特許
J-GLOBAL ID：200903022017555730
投影露光装置及びデバイス製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-281244
公開番号（公開出願番号）：特開2000-182952
出願日： 1999年10月01日
公開日（公表日）： 2000年06月30日
要約：
【要約】【課題】 レチクル面上のパターンをウエハ面上に投影する投影光学系の投影倍率誤差及び歪曲収差そしてその他の諸収差を補正し、高集積度の半導体デバイスが得られる投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法を得ること。【解決手段】 露光光で第1物体面上のパターンを第2物体面に投影する投影光学系を有する投影露光装置において、該投影光学系を構成する少なくとも2つのレンズ群を光軸方向に独立に移動させるとともに、該露光光の波長を変えることにより該第2物体面上に投影されるパターンの投影倍率及び歪曲収差を調整し、その他の諸収差のうちの1つ以上の収差が変化しないか又は変化量が少なくなるように調整すること。
請求項（抜粋）：
投影光学系の投影倍率と対称歪曲収差とこれら以外のある光学特性とを調節する機能を有する投影露光装置であって:前記投影光学系の第1の光学パラメータを変える第1変更手段;前記投影光学系の第2の光学パラメータを変える第2変更手段;及び前記投影光学系の第3の光学パラメータを変える第3変更手段、とを有し、ここで、前記第1の光学パラメータを変えたときの、前記投影倍率の変化量をΔβ1、前記対称歪曲収差の変化量をΔSD1、前記光学特性の変化量をΔA1、前記第2の光学パラメータを変えたときの、前記投影倍率の変化量をΔβ2、前記対称歪曲収差の変化量をΔSD2、前記光学特性の変化量をΔA2、前記第3の光学パラメータを変えたときの、前記投影倍率の変化量をΔβ3、前記対称歪曲収差の変化量をΔSD3、前記光学特性の変化量をΔA3、としたとき、3つのベクトル(Δβ1,ΔSD1,ΔA1),(Δβ2,ΔSD2,ΔA2),(Δβ3,ΔSD3,ΔA3)のうちの2つが互いに成す角がすべて30°以上150°以下であることを特徴とする投影露光装置。ここで、上記各変化量は、実際の変化量を各変更手段による最大変化量で規格化した値である。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 502
H01L 21/30 516 A
, G03F 7/20 502
, H01L 21/30 515 D
