めっき装置及び方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：渡邉勇 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-016018
公開番号（公開出願番号）：特開2002-220692
出願日： 2001年01月24日
公開日（公表日）： 2002年08月09日
要約：

【要約】【課題】被めっき面へのめっき液の接触を円滑に行うとともに、被めっき面に気泡が残ってしまうことを防止できるようにしためっき装置及び方法を提供する。【解決手段】アノード17を浸漬させためっき液10を保持するめっき槽12と、基板Wを着脱自在に保持して該基板下面の被めっき面をめっき槽12に保持しためっき液10の越流面に接触させるヘッド部14と、ヘッド部14を回転及び昇降させる駆動部15と、ヘッド部14を該ヘッド部14で保持した基板Wが水平面に対して傾斜するように傾動させるは傾動部16とを有する。

請求項（抜粋）：

アノードを浸漬させためっき液を保持するめっき槽と、基板を着脱自在に保持して該基板下面の被めっき面を前記めっき槽に保持しためっき液の越流面に接触させるヘッド部と、前記ヘッド部を回転させる駆動部と、前記ヘッド部を該ヘッド部で保持した基板が水平面に対して傾斜するように傾動させる傾動部とを有することを特徴とするめっき装置。

IPC (6件)：

C25D 7/12 , C25D 5/04 , C25D 21/04 , C25D 21/10 302 , H01L 21/288 , H01L 21/3205

FI (8件)：

C25D 7/12 , C25D 5/04 , C25D 21/04 , C25D 21/10 302 , H01L 21/288 E , H01L 21/288 M , H01L 21/88 K , H01L 21/88 M

Fターム (20件)：

4K024BB12 , 4K024CB01 , 4K024CB02 , 4K024CB15 , 4K024CB26 , 4M104BB04 , 4M104BB32 , 4M104DD52 , 4M104FF13 , 4M104FF18 , 4M104HH16 , 5F033HH11 , 5F033MM02 , 5F033NN06 , 5F033NN07 , 5F033PP27 , 5F033QQ37 , 5F033QQ48 , 5F033XX10 , 5F033XX34

引用特許：

審査官引用 (6件)

バンプ電極の形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-025619 出願人：富士通株式会社
めっき装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-194921 出願人：株式会社荏原製作所
カップ式めっき方法及びそれに用いるカップ式めっき装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-015637 出願人：日本エレクトロプレイテイング・エンジニヤース株式会社

全件表示

前のページに戻る