特許
J-GLOBAL ID：200903022179742011

ナノ粒子の堆積方法及びナノ粒子堆積装置

発明者：
佐藤 信太郎

佐藤 信太郎 について


出願人/特許権者：
富士通株式会社

富士通株式会社 について


代理人 (1件)： 横山 淳一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-207030
公開番号（公開出願番号）：特開2008-031529
出願日： 2006年07月28日
公開日（公表日）： 2008年02月14日
要約：
【課題】ナノ粒子を基板上に高い堆積率で堆積することができるナノ粒子の堆積方法及び堆積装置を提供する。【解決手段】真空容器10内に保持された基板2に向けてナノ粒子1を照射し、ナノ粒子1が飛行中にナノ粒子1を加熱して一部又は全部が溶融した液滴とし、液滴状のナノ粒子1を基板2に衝突させて固化して形成されるナノ粒子1cを基板2上に堆積する。液滴状のナノ粒子1は基板2表面での反跳が少なく高い堆積率で堆積することができる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
真空容器内に保持された基板に向けて照射されたナノ粒子を、前記基板に到達する前に加熱して前記ナノ粒子の全部又は一部が溶融した液滴とする工程と、 前記基板上に到達した前記液滴が前記基板上で固化して形成されたナノ粒子を前記基板上に堆積する工程とを有するナノ粒子の堆積方法。
IPC (3件)：
C23C 4/04 ,  B82B 3/00 ,  C01B 31/02
FI (3件)：
C23C4/04 ,  B82B3/00 ,  C01B31/02 101F
Fターム (14件)：
4G146AA11 ,  4G146AB06 ,  4G146BB22 ,  4G146BB23 ,  4G146BC44 ,  4K031AA06 ,  4K031AA08 ,  4K031AB02 ,  4K031CB18 ,  4K031CB31 ,  4K031DA07 ,  4K031DA08 ,  4K031EA10 ,  4K031EA12
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (7件)
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