特許
J-GLOBAL ID：200903022223718557

ポジ型感光性樹脂組成物

発明者：
河辺 保雅

河辺 保雅 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (1件)： 萩野 平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-229793
公開番号（公開出願番号）：特開2000-066380
出願日： 1998年08月14日
公開日（公表日）： 2000年03月03日
要約：
【要約】【課題】深紫外線、特にArFエキシマレーザー光リソグラフィに有用な、脂環式炭化水素骨格を有する重合体を用いた化学増幅レジスト組成物であって、レジスト性能、塗布性能、溶液の保存安定性、安全性に優れ、現像欠陥の問題を生じないポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。【解決手段】環状脂肪族炭化水素骨格を有し、酸の作用により分解してアルカリ可溶性となる重合体、活性光線により酸を発生する化合物、含窒素塩基性化合物、フッ素系及び/又はシリコン系界面活性剤、及び溶剤が、乳酸エチル,プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート,プロピレングリコ ールモノメチルエーテルプ ロピオネート,3-メトキシプロピオン酸メチル,及び3-エトキシプロピオン酸エチルから選択される少なくとも1種の第1の溶媒を60〜90重量%含有し、温度20°Cにおける粘度が1センチポアズ以下の第2の溶媒を10〜40重量%含有するポジ型感光性樹脂組成物。
請求項（抜粋）：
(A)環状脂肪族炭化水素骨格を有し、酸の作用により分解してアルカリ可溶性となる重合体、(B)活性光線により酸を発生する化合物、(C)含窒素塩基性化合物、(D)フッ素系及び/又はシリコン系界面活性剤、並びに(E)下記(a)第1の溶媒を全溶剤に対して60〜90重量%含有し、且つ下記(b)第2の溶媒を全溶剤に対して10〜40重量%含有する溶剤(a)乳酸エチル,プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート,プロピレングリコ ールモノメチルエーテルプロピオネート,3- メトキシプロピオン酸メチル,及び3-エトキシプロピオン酸エチルから選択される少なくとも1種の第1の溶媒。(b)温度20°Cにおける粘度が1センチポアズ以下の第2の溶媒。を含有することを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。
IPC (4件)：
G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 504 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027
FI (4件)：
G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 504 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R
Fターム (15件)：
2H025AB15 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025CB06 ,  2H025CB41 ,  2H025CB52 ,  2H025CC03 ,  2H025CC04 ,  2H025CC20
引用特許：
審査官引用 (7件)
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