特許
J-GLOBAL ID：200903022233467315

マスク、露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法

発明者：
柴崎 祐一

柴崎 祐一 について

, 
鈴木 博之

鈴木 博之 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (4件)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  青山 正和 ,  西 和哉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-254614
公開番号（公開出願番号）：特開2008-076650
出願日： 2006年09月20日
公開日（公表日）： 2008年04月03日
要約：
【課題】円筒状または円柱状のマスクの位置情報を正確に取得でき、基板上にパターン像を良好に形成することができるマスクを提供する。【解決手段】マスクMは、パターンMPが形成され所定軸Jの周りに配置されたパターン形成面MFと、パターン形成面に形成されたパターンからなり、パターンは外周面の周方向に複数形成され、パターン形成面の所定領域にパターンに対して所定位置関係で形成された位置情報を取得するためのマークとを備えている。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
所定軸周りに回転しつつ基板上にパターンの像を形成するためのマスクであって、 前記パターンが形成され、前期所定軸周りに配置されたパターン形成面と、 前記パターン形成面の所定領域に前記パターンに対して所定位置関係で形成された位置情報を取得するためのマークと、を備えたマスク。
IPC (3件)：
G03F 1/08 ,  H01L 21/027 ,  G03F 7/20
FI (6件)：
G03F1/08 M ,  H01L21/30 502M ,  H01L21/30 515F ,  H01L21/30 516B ,  H01L21/30 518 ,  G03F7/20 521
Fターム (15件)：
2H095BA01 ,  2H095BC28 ,  2H095BC32 ,  2H095BE03 ,  2H095BE08 ,  5F046BA05 ,  5F046CB17 ,  5F046CC02 ,  5F046CC13 ,  5F046DA06 ,  5F046DB05 ,  5F046DC03 ,  5F046EA03 ,  5F046EA09 ,  5F046EB02
引用特許：
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (8件)
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