特許
J-GLOBAL ID：200903022339640270
洗浄方法及び洗浄装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
角田 芳末
, 磯山 弘信
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-203258
公開番号（公開出願番号）：特開2007-027195
出願日： 2005年07月12日
公開日（公表日）： 2007年02月01日
要約：
【課題】 プローブによるパーティクルの除去において、パーティクルとプローブとの付着力をコントロールして、パーティクルの除去を確実にするようにした洗浄方法及び洗浄装置を提供するものである。【解決手段】 温度コントロール可能なプローブ先端12を有する除去プローブ5を用い、プローブ先端12の周囲を含んで該プローブ先端12とウェーハ3表面のパーティクル21の間に存在する物質の相状態を変化させて、プローブ先端12にパーティクル21を付着させ、パーティクル12をウェーハ3表面から除去する。【選択図】 図3
請求項（抜粋）：
温度コントロール可能なプローブ先端を有する除去プローブを用い、
前記プローブ先端の周囲に存在する物質のうち、前記プローブ先端とウェーハ表面のパーティクルの間に集まる物質の相状態を変化させて、
前記プローブ先端に前記パーティクルを付着させ、前記パーティクルを前記ウェーハ表面から除去する
ことを特徴とする洗浄方法。
IPC (1件)：
FI (2件)：
H01L21/304 648Z
, H01L21/304 647A
