特許
J-GLOBAL ID：200903022547433806
紫外線または紫外線より波長の短い光を用いた材料の加工装置および加工方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
深見 久郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-026462
公開番号（公開出願番号）：特開2001-212795
出願日： 2000年02月03日
公開日（公表日）： 2001年08月07日
要約：
【要約】【課題】 材料を所望の3次元形状に容易に加工すること。【解決手段】 紫外線または紫外線より波長が短く所定の強度の光を放射するSR光源1と、放射された光を透過する所定形状の透過口を有するX線マスクと、材料の面上の位置と加工量とからなる加工形状を入力する入力部6と、材料の露光量と加工量との関係を記憶する記憶部7と、記憶された露光量と加工量との関係に従って、入力部6で入力された加工形状を材料の面上の位置と露光量とからなる有効露光量分布に変換し、有効露光量分布と透過口を透過する光の強度分布とに基づき、材料の露光量分布が有効露光量分布となるように、透過口を透過した光で材料が照射される照射領域を材料の面上で移動させる移動パターンを算出するメインコントローラ5と、算出された移動パターンにしたがってX線マスクと材料とを相対的に移動させる露光用ステージ3とを備える。
請求項（抜粋）：
材料に紫外線または紫外線より波長の短い光を照射して、前記材料を除去することにより、または、前記材料の物理的もしくは化学的性質を変化させることにより加工する加工装置であって、紫外線または紫外線より波長が短い光を放射する光源と、前記光源から放射された光を透過する所定形状の透過部を有するマスクと、前記材料の面上の位置と加工量とからなる加工形状を入力するための入力手段と、前記材料の露光量と加工量との関係を記憶する記憶手段と、前記記憶手段に記憶された露光量と加工量との関係に従って、前記入力手段で入力された加工形状を前記材料の面上の位置と露光量とからなる有効露光量分布に変換する変換手段と、前記有効露光量分布と前記透過口の形状とに基づき、前記材料の露光量分布が前記有効露光量分布となるように、前記透過口を透過した光で前記材料が照射される照射領域を前記材料の面上で移動させる移動パターンを算出する算出手段と、算出された前記移動パターンに従って前記マスクと前記材料とを相対的に移動させる移動手段とを備えた、加工装置。
IPC (3件)：
B81B 5/00
, G03F 7/20 502
, G03F 7/20 503
B81B 5/00
, G03F 7/20 502
, G03F 7/20 503
2H097BB01
, 2H097CA12
, 2H097CA15
, 2H097FA03
, 2H097FA06
, 2H097LA15
