セラミック部品

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-098845
公開番号（公開出願番号）：特開2001-284328
出願日： 2000年03月31日
公開日（公表日）： 2001年10月12日
要約：

【要約】【課題】半導体製造装置用の静電チャック、ヒータ、サセプタについて、内蔵する電極パターンが複雑であってもその精度がよく、腐食性ガスに対する耐食性にも優れた部材を、安価に作製する方法を提供することにある。【解決手段】電極となる金属板を配置した基板上に、溶射によるセラミック膜を形成したことを特徴とする静電チャック、ヒータ、サセプタ。

請求項（抜粋）：

半導体製造装置用の静電チャック、ヒータ、サセプタであって、電極となる金属板を配置した基板上に、溶射によるセラミック膜を形成したことを特徴とする静電チャック、ヒータ、サセプタ。

IPC (5件)：

H01L 21/3065 , C04B 41/87 , C23C 4/10 , H01L 21/203 , H01L 21/205

FI (5件)：

C04B 41/87 J , C23C 4/10 , H01L 21/203 Z , H01L 21/205 , H01L 21/302 B

Fターム (20件)：

4K031AA08 , 4K031AB02 , 4K031BA02 , 4K031CB43 , 4K031DA03 , 4K031DA04 , 4K031DA06 , 4K031DA08 , 4K031FA05 , 5F004AA16 , 5F004BB22 , 5F004BB26 , 5F004BB30 , 5F004BC08 , 5F045EK07 , 5F045EM02 , 5F045EM05 , 5F045EM09 , 5F103BB33 , 5F103BB42

引用特許：

審査官引用 (11件)

特開平4-034952
特開昭59-152636
静電チャック及び静電吸着装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-034310 出願人：株式会社日立製作所

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