特許
J-GLOBAL ID:200903022590706409

パターン欠陥検査装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 鈴江 武彦 (外6名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-095305
公開番号(公開出願番号):特開2002-298124
出願日: 2001年03月29日
公開日(公表日): 2002年10月11日
要約:
【要約】【課題】 フォトマスク上に形成されるパターンのエッチングプロセスによって生じるパターンの微妙な変化に対応したパターンデータの合わせを行い、疑似欠陥の発生を招くことなく精度良い検査を行う。【解決手段】 設計データを多値階調のパターンデータに展開し、展開した多値階調パターンデータに対しリサイズ処理を施し、フォトマスク上のパターンをセンサで検出した観測値とリサイズされた多値階調パターンデータとを比較するパターン欠陥検査装置において、リサイズ処理のために、パターンデータ内特定領域のデータの向きを測定し、ある特定の向きにパターンデータを回転する図形回転回路11と、回転された特定領域内のパターンデータから図形の形状を分類する図形形状分類回路12と、図形分類番号とリサイズ量を基にパターンデータのリサイズ処理を行うパターンデータ膨張回路13を設けた。
請求項(抜粋):
パターンが形成された試料に光を照射し、前記パターンの光学像を受光して光電変換する手段と、該手段により得られた信号を基に前記パターンに対応した測定パターンデータを発生する手段と、前記試料にパターンを形成するときに用いられた設計データから多値階調パターンデータを発生するパターンデータ発生手段と、該手段により得られた多値階調パターンデータに対し膨張/収縮を行うリサイズ手段と、該手段により膨張/収縮が行われた多値階調パターンデータと前記測定パターンデータとを比較して前記試料に形成されたパターンの欠陥有無を判定する判定手段とを備えたパターン欠陥検査装置であって、前記リサイズ手段は、前記パターンデータ発生手段により得られた多値階調パターンデータの特定領域内で該パターンデータの方向を検出して該パターンデータの方向を合わせる多値階調パターンデータ回転手段と、方向が合わされた多値階調パターンデータの形状を認識し分類する多値階調パターンデータ形状分類手段とを有し、前記分類された形状に応じて前記膨張/収縮を行うことを特徴とするパターン欠陥検査装置。
IPC (5件):
G06T 1/00 305 ,  G01B 11/24 ,  G01N 21/956 ,  G03F 1/08 ,  H01L 21/027
FI (5件):
G06T 1/00 305 A ,  G01N 21/956 A ,  G03F 1/08 S ,  G01B 11/24 K ,  H01L 21/30 502 P
Fターム (37件):
2F065AA49 ,  2F065AA54 ,  2F065BB02 ,  2F065CC18 ,  2F065CC32 ,  2F065FF04 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ26 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ04 ,  2F065QQ27 ,  2F065QQ31 ,  2G051AA56 ,  2G051AB02 ,  2G051AC21 ,  2G051CA03 ,  2G051CB02 ,  2G051DA07 ,  2G051EA12 ,  2G051ED04 ,  2G051ED12 ,  2G051ED14 ,  2H095BA01 ,  2H095BD04 ,  5B057AA03 ,  5B057BA02 ,  5B057CA08 ,  5B057CB08 ,  5B057CD03 ,  5B057CF10 ,  5B057CH01 ,  5B057DA03 ,  5B057DB02 ,  5B057DB09 ,  5B057DC08 ,  5B057DC09 ,  5B057DC33
引用特許:
審査官引用 (5件)
全件表示

前のページに戻る