特許
J-GLOBAL ID：200903022771428389
色変換フィルタ基板の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
谷 義一
, 阿部 和夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-064641
公開番号（公開出願番号）：特開2009-224063
出願日： 2008年03月13日
公開日（公表日）： 2009年10月01日
要約：
【課題】隣接するサブピクセルへの漏れがなく、かつ均一な膜厚を有する色変換層を、インクジェット法を用いて、低コストおよび高精細に作製することができる方法を提供する。【解決手段】ドライエッチング法によってバンクを形成する際に、平坦化層50が無機粒子を含有し、かつ平坦化層50中の第1マトリクスと第1バンク材料層を構成する第2マトリクスとを同じエッチングガスでエッチングすることのできる材料とすることで、第1バンク層を形成することと隣接するバンク層60の間に位置する平坦化層50に選択的に凹凸を形成することとを同一工程で行う。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
(1) 基板上に少なくとも2種のカラーフィルタ層を形成する工程と、
(2) 前記少なくとも2種のカラーフィルタ層の上に無機粒子および第1マトリクスを含む平坦化層を形成する工程と、
(3) 平坦化層の上に、第2マトリクスからなる第1バンク材料層を形成する工程と、
(4) 第1バンク材料層の上に、第2バンク材料層を形成する工程と、
(5) 第2バンク材料層上に、第3マトリクスからなるマスク層を形成する工程であって、マスク層は、異種のカラーフィルタ層の境界に相当する位置に形成される工程と、
(6) マスク層をマスクとして第2バンク材料層をドライエッチングして、第2バンク層を形成する工程と、
(7) 第2バンク層をマスクとして第1バンク材料層および平坦化層の一部をドライエッチングして、第1バンク層を形成し、および平坦化層の表面に凹凸を形成する工程と、
(8) 凹凸が形成された平坦化層の上に、インクジェット法を用いて色変換色素を含むインクを付着して、少なくとも1種の色変換層を形成する工程と
を含むことを特徴とする色変換フィルタ基板の製造方法。
IPC (4件)：
H05B 33/10
, H05B 33/12
, H01L 51/50
, G02B 5/20
H05B33/10
, H05B33/12 E
, H05B33/14 A
, G02B5/20 101
2H048BA02
, 2H048BA42
, 2H048BB02
, 2H048BB28
, 2H048BB41
, 3K107AA01
, 3K107BB01
, 3K107CC33
, 3K107CC35
, 3K107CC45
, 3K107DD89
, 3K107DD90
, 3K107EE22
, 3K107EE24
, 3K107GG08
, 3K107GG13
