マイクロ波プラズマ処理装置

発明者： , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：丸島儀一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-250503
公開番号（公開出願番号）：特開平11-087094
出願日： 1997年09月16日
公開日（公表日）： 1999年03月30日
要約：

【要約】【課題】マイクロ波発振器の実稼動率を高め、スループットを向上させる。【解決手段】複数のチャンバと1つの発振器を有するマイクロ波プラズマ処理装置において、マイクロ波の伝搬経路を切替える切替手段を設ける。又、マイクロ波の伝搬モードを変換する変換手段を設け、均一性を高める。

請求項（抜粋）：

被処理体をプラズマ処理する為のチャンバの複数と、プラズマを生成する為のマイクロ波を供給するマイクロ波供給手段とを有するマイクロ波プラズマ処理装置において、マイクロ波発振器から該複数のチャンバに至るマイクロ波伝搬経路にマイクロ波の伝搬経路を切替える為の切替手段を具備することを特徴とするマイクロ波プラズマ処理装置。

IPC (6件)：

H05H 1/46 , C23F 4/00 , H01L 21/203 , H01L 21/205 , H01L 21/3065 , C23C 14/35

FI (6件)：

H05H 1/46 B , C23F 4/00 D , H01L 21/203 S , H01L 21/205 , C23C 14/35 F , H01L 21/302 B

引用特許：

審査官引用 (10件)

特開平3-039480
特開平2-094627
プラズマ処理方法および装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-101144 出願人：住友金属工業株式会社

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