特許
J-GLOBAL ID：200903022961540339
配向異方性ポリマー素子及びその形成方法
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
後藤 幸久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-056744
公開番号（公開出願番号）：特開2003-253019
出願日： 2002年03月04日
公開日（公表日）： 2003年09月10日
要約：
【要約】【課題】 超短パルスレーザーの照射により、劣化を生じさせずに、ポリマーの配向方向が変化した配向変化部を精密に制御して形成された配向異方性ポリマー素子を提供する。【解決手段】 配向異方性ポリマー素子は、パルス幅が10-12秒以下のレーザーの照射により、レーザー加工用ポリマー材料の任意の部位にポリマーの配向方向が変化した配向変化部を有することを特徴とする。前記レーザー加工用ポリマー材料は、ポリシラン系ポリマーを含有していてもよく、前記ポリシラン系ポリマーとしては、下記式(1)で表される構造単位を有していてもよい。【化1】(式(1)において、R1、R2は、同一又は異なって、水素原子、ヒドロキシル基、アルコキシ基、炭化水素基、ハロゲン原子、ポリシラン骨格を示す。)
請求項（抜粋）：
パルス幅が10-12秒以下のレーザーの照射により、レーザー加工用ポリマー材料の任意の部位にポリマーの配向方向が変化した配向変化部を有することを特徴とする配向異方性ポリマー素子。
IPC (3件)：
C08J 7/00 302
, B23K 26/00
, C08G 77/60
C08J 7/00 302
, B23K 26/00 G
, C08G 77/60
4E068CA03
, 4E068DB07
, 4E068DB11
, 4F073AA29
, 4F073AA32
, 4F073BA18
, 4F073BA33
, 4F073BB01
, 4F073CA53
, 4J035JA01
, 4J035LB20
