特許
J-GLOBAL ID：200903022964564611

超臨界乾燥方法

発明者：
生津 英夫

生津 英夫 について


出願人/特許権者：
日本電信電話株式会社

日本電信電話株式会社 について


代理人 (1件)： 山川 政樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-346205
公開番号（公開出願番号）：特開2001-165568
出願日： 1999年12月06日
公開日（公表日）： 2001年06月22日
要約：
【要約】【課題】 超臨界乾燥におけるパターン倒れを、従来より減少する。【解決手段】 基板101をノルマルヘキサンに浸漬した後、反応室102内に液化二酸化炭素とともに封入し、基板101表面のノルマルヘキサンを液化二酸化炭素で置換する。
請求項（抜粋）：
基板上に形成された所定のパターンを有するパターン層を水に晒す第1の工程と、この第1の工程の後、前記パターン層に前記水が付着した状態で前記パターン層をアルコールの液体に晒し、前記パターン層に付着している水を前記アルコールの液体に溶解させて前記パターン層に前記アルコールの液体が付着している状態とする第2の工程と、この第2の工程の後、前記パターン層に前記アルコールの液体が付着している状態で前記パターン層を脂肪族炭化水素の液体に晒し、前記パターン層に付着しているアルコールの液体を前記脂肪族炭化水素の液体に溶解させて前記パターン層に前記脂肪族炭化水素の液体が付着している状態とする第3の工程と、この第3の工程の後、前記パターン層に前記脂肪族炭化水素の液体が付着している状態で前記パターン層を大気雰囲気では気体である無極性物質の液体に晒し、前記パターン層に付着している脂肪族炭化水素の液体を前記無極性物質の液体に溶解させて前記パターン層に前記無極性物質の液体が付着している状態とする第4の工程と、この第4の工程の後、前記パターン層に付着している無極性物質を超臨界状態とする第5の工程と、この第5の工程の後、前記パターン層に付着している超臨界状態の無極性物質を気化させる第6の工程とを少なくとも備えたことを特徴とする超臨界乾燥方法。
IPC (2件)：
F26B 7/00 ,  H01L 21/304 651
FI (2件)：
F26B 7/00 ,  H01L 21/304 651 J
Fターム (6件)：
3L113AA01 ,  3L113AB10 ,  3L113AC20 ,  3L113AC23 ,  3L113BA34 ,  3L113DA04
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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