特許
J-GLOBAL ID：200903023080631532

膜処理方法および膜処理装置

発明者：
大町 芳通

大町 芳通 について


出願人/特許権者：
水道機工株式会社

水道機工株式会社 について


代理人 (1件)： 有近 紳志郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-138298
公開番号（公開出願番号）：特開2005-319375
出願日： 2004年05月07日
公開日（公表日）： 2005年11月17日
要約：
【課題】オゾン関連設備をろ過および洗浄の両方で使用する。【解決手段】ろ過工程では、オゾン反応塔11でろ過時オゾン濃度にしたオゾン処理水W2を膜モジュール1,2,3の一次側から二次側へ透過させてろ過する。循環洗浄工程では、オゾン反応塔11で洗浄時オゾン濃度にしたオゾン処理水W2を膜モジュール1,2,3の一次側とオゾン反応塔11の間で循環させて膜モジュール1,2,3を洗浄する。【効果】オゾン関連設備の利用効率を向上できる。循環通水するため、オゾンを無駄なく利用できると共にオゾン濃度の制御を的確に行うことが出来る。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
オゾン濃度をろ過時オゾン濃度としたオゾン処理水を膜モジュールの一次側に循環通水して前記オゾン処理水の一部を前記膜モジュールの一次側から二次側へ透過させるろ過工程と洗浄水を前記膜モジュールの二次側から一次側へ透過させる逆洗工程とを繰り返す通常運転の間に、オゾン濃度を循環洗浄時オゾン濃度としたオゾン処理水を膜モジュールの一次側に循環通水して前記膜モジュールを洗浄する循環洗浄工程を挟むことを特徴とする膜処理方法。
IPC (3件)：
B01D65/06 ,  C02F1/50 ,  C02F1/78
FI (10件)：
B01D65/06 ,  C02F1/50 510A ,  C02F1/50 520B ,  C02F1/50 520P ,  C02F1/50 531R ,  C02F1/50 540A ,  C02F1/50 550H ,  C02F1/50 550L ,  C02F1/50 560E ,  C02F1/78
Fターム (25件)：
4D006GA06 ,  4D006GA07 ,  4D006HA19 ,  4D006KA42 ,  4D006KA67 ,  4D006KC02 ,  4D006KC03 ,  4D006KC12 ,  4D006KC13 ,  4D006KC21 ,  4D006KD21 ,  4D006KE24Q ,  4D006MA01 ,  4D006MB11 ,  4D006MC29 ,  4D006PA01 ,  4D006PB02 ,  4D050AA01 ,  4D050AA12 ,  4D050AB03 ,  4D050AB06 ,  4D050AB07 ,  4D050BB12 ,  4D050BD08 ,  4D050CA09
引用特許：
出願人引用 (4件)
  • 特開平3-249927号公報
  • 膜分離水処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-109744   出願人：株式会社東芝
  • 膜ろ過装置の洗浄方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-176959   出願人：日本鋼管株式会社
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審査官引用 (3件)

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