特許
J-GLOBAL ID：200903023544753768
電極形成方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
森山 哲夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-288731
公開番号（公開出願番号）：特開2000-101315
出願日： 1998年09月25日
公開日（公表日）： 2000年04月07日
要約：
【要約】【課題】誘電体フィルタなどを構成するために、誘電体ブロック10の表面に、加工性が良くまた密着性の高い電極層を形成する電極形成方法を提供する。【解決手段】誘電体ブロック10の表面全体にディッピングにより導電ペーストを設ける工程と、この導電ペーストを温度400〜650度で仮焼き付けして電極層12を形成する工程と、この仮焼き付けによる電極層12上にトリミング用マスク20を配設してノズル24から砥粒を吹き付けてトリミング用マスク20の開口窓22の形状に合わせて仮焼き付けによる電極層12を所定の形状に研削する工程と、研削された仮焼き付けによる電極層12を温度を800〜860度で本焼き付けする工程と、を備える。
請求項（抜粋）：
誘電体ブロックの表面に導電ペーストを設ける工程と、この導電ペーストを仮焼き付けして電極層を形成する工程と、この仮焼き付けによる電極層上にトリミング用マスクを配設して砥粒を吹き付けて前記トリミング用マスクの開口窓の形状に合わせて前記仮焼き付けによる電極層を所定の形状に研削する工程と、前記仮焼き付けによる電極層を本焼き付けする工程と、を備えたことを特徴とする電極形成方法。
引用特許：
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